특허청, 디자인 선진5국과 협력성과 공개…국가별 현황 비교정리

중국 주도 '디자인 도면 작성을 위한 사용자 가이드'도 공개

ID5 공식 누리집 화면 [특허청 제공. 재판매 및 DB 금지]

(대전=연합뉴스) 이은파 기자 = 특허청은 디자인 선진 5개국(ID5)과 협력해 최근 완료한 '메타버스에서의 디지털 디자인 보호 보고서'를 ID5 공식 누리집(https://id-five.org)을 통해 공개했다고 21일 밝혔다.

이 보고서는 가상현실(VR)과 증강현실(AR) 등 신기술 발전에 따른 디자인의 국가별 등록 가능성 및 보호 현황을 가설적인 예시와 함께 비교·정리한 것이 특징이다.

ID5는 디자인 분야 선진 5개국(한국·미국·일본·중국·유럽) 협의체로, 특허청은 사용자 친화적인 디자인보호제도의 발전을 위해 2016년 ID5 출범 이후 수행해온 30여개 협력과제 결과물을 이번에 ID5 공식 누리집을 통해 전 세계 사용자들에게 공개하게 됐다고 설명했다.

메타버스에 관한 보고서 외에 중국이 주도한 '디자인 도면 작성을 위한 사용자 가이드'도 제작이 완료돼 공개됐다.

이 가이드에는 국가별 도면 양식 공통점과 차이점, 부분 디자인 작성 요령 등 구체적인 정보가 수록됐다.

메타버스에서의 디자인 보호 표지 [특허청 제공. 재판매 및 DB 금지]

이춘무 상표디자인심사국장은 "디자인 분야는 특허·상표보다 디자인 보호제도의 편차가 큰 만큼 법제도 조화를 위한 국제협력이 매우 중요하다"며 "앞으로 사용자에게 도움이 될 수 있는 ID5 협력과제를 적극 추진하고, 그 결과를 바로 공개해 지식재산권 분야에서 국제적인 리더십을 발휘하겠다"고 말했다.

sw21@yna.co.kr

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