'삼전닉스' 생산확대 속도 붙겠네…반도체 EUV 도입 절차 간소화로 장비당 5억씩 절감

검사기간 34일서 9일로 25일 단축
중간검사 생략해 장비당 5억원 비용 절감
삼성전자·하이닉스 첨단 생산라인 구축 속도 기대

삼성전자 반도체 생산현장

정부가 반도체 초미세 공정의 핵심 장비인 EUV(극자외선) 노광장비의 국내 도입 절차를 대폭 간소화한다. 이에 따라 삼성전자와 SK하이닉스 등 반도체 기업들은 장비 1대당 검사 기간을 최대 25일 줄이고 대당 약 5억원의 비용도 절감할 수 있게 됐다.

산업통상부는 2일 열린 국무회의에서 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비에 대해 기존 고압가스 일반제조시설이 아닌 '특정설비' 기준을 적용하는 내용을 담은 '고압가스 안전관리법 시행령' 일부 개정안이 의결됐다고 밝혔다.

개정안의 핵심은 EUV 노광장비의 안전관리 체계를 합리화하는 것이다. 그동안 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관과 압축기 등이 포함돼 있다는 이유로 '고압가스 제조시설'로 분류돼 왔다. 이에 따라 장비를 설치할 때마다 기술검토와 중간·완성검사를 받아야 해 기업들의 부담이 크다는 지적이 제기됐다.

정부는 이번 개정을 통해 EUV 장비를 제조시설이 아닌 특정설비(제품)로 전환 관리하기로 했다. 이에 따라 검사 절차는 기술검토, 허가, 완성검사 중심으로 단순화된다. 기존 34일이 소요되던 절차는 9일로 단축되며, 해외 공인검사기관이 수행하는 중간검사가 생략돼 장비당 약 5억원의 검사 비용도 절감될 전망이다.

산업부는 이번 조치로 첨단 제조장비의 신속한 도입과 생산라인 조기 가동이 가능해져 국내 반도체 산업의 경쟁력 강화에 도움이 될 것으로 기대했다. 특히 EUV 장비는 네덜란드 ASML이 전 세계 독점 생산하는 장비로, 13.5나노미터(nm) 파장의 극자외선을 이용해 웨이퍼에 초미세 회로를 새기는 첨단 반도체 공정의 핵심 설비다.

정부는 안전성 저하 우려를 막기 위해 EUV 장비를 특정설비로 지정한 뒤 3년 주기의 공장심사와 종합공정검사를 실시해 제조사의 품질관리 능력을 확인하도록 했다. 산업통상부는 이를 통해 기존과 동등한 수준의 안전성을 확보할 수 있다고 설명했다.

이번 개정안에는 친환경 세탁기인 '액화 이산화탄소 세정설비'의 상용화를 위한 맞춤형 검사 기준 신설과 위험성이 낮은 고압가스 시설의 안전관리자 자격요건 완화 등 규제 합리화 방안도 포함됐다.

김정관 산업부 장관은 "이번 법령 개정은 안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 대표적인 규제혁신 사례"라며 "앞으로도 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 적극 지원해 나가겠다"고 말했다

세종=강나훔 기자 nahum@asiae.co.kr