ASML, 올해 EUV 장비 생산 36% 확대…AI 반도체 병목 해소 총력전

[디지털데일리 김문기기자] ASML이 올해 극자외선(EUV) 노광장비 생산량을 전년 대비 36% 확대하고, AI 반도체 수요 폭증에 따른 공급 병목 현상을 해소하기 위해 장비 생산 및 인프라 투자에 총력을 기울인다.
25일(현지시간) 월스트리트저널(WSJ)에 따르면, 극자외선(EUV) 노광장비 공급사인 네덜란드 ASML이 인공지능(AI) 반도체 수요 폭증에 대응하기 위해 올해 매출 전망치를 최대 470억 달러(약 64조8600억원)로 상향 조정하고 장비 생산량 확대에 돌입했다고 밝혔다.
마이크로소프트(Microsoft), 메타(Meta), 아마존(Amazon), 구글(Google) 등 글로벌 빅테크 4사가 올해 AI 인프라 구축에만 6000억 달러(약 828조원) 이상을 투입하기로 하면서, 첨단 칩 제조의 필수 장비인 ASML의 노광기 확보 전쟁이 가열되고 있다. 이에 ASML은 올해 표준형 EUV 장비를 지난해보다 36% 늘어난 최소 60대 이상 생산하고, 내년에는 80대까지 공급량을 끌어올릴 계획이다.
생산 가속화를 위해 ASML은 올해 시설 및 인프라 투자에 전년 대비 20% 증가한 22억 달러(약 3조360억원)를 집행한다. 이미 미국과 독일, 한국에 신규 클린룸을 설치한 데 이어 네덜란드 본사 인근에도 대규모 신규 캠퍼스 착공을 앞두고 있다. 이는 과거 코로나19 팬데믹 당시 겪었던 공급망 병목 현상을 재풀이하지 않겠다는 전략적 판단이다.
다만 기술적 난제와 인력 수급은 여전한 과제다. ASML은 이를 극복하기 위해 네덜란드 현지는 물론 해외 대학과 협력해 전문 엔지니어 확보에 사활을 걸고 있다.
차세대 장비인 '하이-NA EUV'에 대한 시장의 반응은 엇갈린다. 대만 TSMC 등 일부 고객사는 높은 도입 비용을 이유로 기존 표준 EUV 공정 연장을 선호하고 있어, ASML은 기존 장비의 생산 효율을 시간당 10장 이상 높이는 업그레이드 솔루션을 병행 제공하며 수익성을 극대화하고 있다.
크리스토프 푸케(Christophe Fouquet) ASML CEO는 "우리는 고객들이 겪는 생산의 병목 지점이 되지 않기를 원한다"라며 "생산 능력을 확충하기 위해 우리가 가진 모든 자원을 총동원하고 있다"라고 말했다.
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