[초동시각]미래 핵심기술 해외유출 1년형 vs 33년형

韓, 中에 유출혐의 징역 1년형
대법 양형기준 강화안도 느슨
미국처럼 엄벌해야 초격차 유지

이광호 산업IT부 재계팀장.

정부가 경기 남부 지역에 세계 최대 규모의 ‘반도체 메가 클러스터’ 건설을 추진하고, 삼성전자와 SK하이닉스 등 민간 기업이 622조원을 투자하는 계획을 발표했다. 정부는 기반시설 건설과 도로 건설 등을 지원해 650조원의 생산 유발과 총 346만명의 직간접 고용 창출을 목표로 삼고 있다. 윤석열 대통령은 지난달 ‘국민과 함께하는 민생토론회’에서 반도체 메가 클러스터를 반드시 성공시킬 것이라고 다짐했다. 한동훈 국민의힘 비상대책위원장도 최근 산업계 관계자들과 간담회를 갖고 전폭적인 지원을 약속했다. 그러나 이런 움직임에도 일각에선 냉담한 반응이 나타나고 있다. 기술 유출 위협뿐만 아니라, 그에 대한 법적 대응이 다소 미흡하다는 우려 때문이다.

윤 대통령이 반도체 메가 클러스터를 다짐한 당시에도 2014년에 삼성전자에서 개발한 20나노 D램 반도체 기술이 중국 업체에 유출된 사례가 나오면서 논란이 됐다. 지난해에는 삼성전자의 전 직원이 18나노 D램 반도체 공정 기술을 중국으로 유출한 혐의로 구속되기도 했고, SK하이닉스 협력업체 부사장 역시 2018년부터 반도체 핵심기술과 영업비밀을 중국 반도체 경쟁업체로 유출한 혐의로 1심에서 징역 1년의 실형을 받았다. 2018년 이후 5년 동안 국가정보원이 적발한 국내 산업기술 유출 사례는 총 104건에 달한다. 이 중에서 반도체가 30건으로 가장 많았으며, 그 다음으로는 디스플레이(23건), 전기·전자(11건), 자동차(9건), 정보통신(6건), 조선(6건) 등이 순위에 올랐다.

글로벌 첨단 산업 경쟁이 치열해지면서 산업기술 유출에 대한 경각심이 증대되자, 법원은 기술 유출 범죄에 대한 처벌 수준을 높이기 위한 대책을 추진 중이다. 대법원 양형위원회는 지난달 열린 전체회의에서 ‘국가핵심기술 등 국외 침해’ 조항에 대한 별도 양형 기준을 신설하며 최대 징역 18년형까지 선고하도록 권고했다. 또 기존의 영업비밀 침해 행위와 유사한 유형으로 분류돼 최고 형량이 징역 9년에 그쳤던 산업기술 해외 유출 범죄에 대해 징역 15년형까지 처할 수 있도록 양형 기준을 개선했다. 이번 양형 기준안은 공청회 등을 거쳐 오는 3월 최종 확정될 예정이다.

다만 양형 기준이 강화됐다고 해도 미국, 대만 등과 비교하면 여전히 느슨하기 짝이 없다. 미국은 피해액에 따라 최대 33년 9개월의 징역형을 선고할 수 있으며, 500만 달러(약 66억7000만원)까지의 추징금을 부과할 수 있다. 대만은 간첩죄를 적용해 최대 사형까지 처벌이 가능하며, 최근 처벌을 강화한 일본은 기술 유출을 한 법인에 최대 10억엔(약 90억2000만원)의 벌금을 부과할 수 있도록 조치했다. 선진국들이 처벌 수위를 강하게 유지하는 건 상대국들이 기술 유출을 엄중히 처벌하고 있기 때문이다. 이들 국가는 기업들이 투자한 수조 원에 달하는 미래 핵심 기술을 보호하고, 이를 통해 국가 안보와 국익을 지키려는 노력을 기울이고 있다. 우리 역시 기술 유출을 엄격히 처벌하고 기술 보호에 주력해야 한다. 초격차를 유지하기 위한 최소한의 안전장치다.

이광호 기자 kwang@asiae.co.kr