SCMP "中, 28나노 노광장비 개발 발표…관련 보도는 검열"

지난 2월 28일(현지시간) 중국 장수성에서 한 근로자가 반도체를 만들고 있다. 로이터=연합뉴스

중국 국영 반도체 기업이 28나노(㎚, 10억분의 1m) 노광 장비를 자체 개발했다고 31일(현지시간) 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)가 보도했다.

이에 따르면 중국 상하이마이크로일렉트로닉스(SMEE·上海微電子裝備)의 후원사인 상하이장장그룹은 지난주 소셜미디어(SNS) 위챗 계정을 통해 중국에서 처음으로 28나노 노광 장비가 개발됐다고 발표했다.

SMEE는 ‘중국판 ASML’을 꿈꾸는 중국 내 거의 유일한 반도체 노광 장비 제작사다. 세계 노광 장비 시장은 네덜란드의 ASML이 대부분 독점하고 있어 중국의 반도체 기술 자립을 위해 마련됐다.

노광 장비는 극자외선(EUV) 등 빛을 반도체 원재료인 웨이퍼에 비춰 미세한 회로를 새겨넣을 때 쓰인다. 반도체 생산에 들어가는 기술이 섬세해지며 미세 공정에 사용되는 최첨단 노광 장비의 중요성은 점차 커지고 있다.

상용화 경쟁이 본격화하고 있는 7나노 이하 미세공정 반도체 생산하려면 ASML이 독점 생산하는 EUV 노광 장비가 필요해 앞서 미국 정부는 ASML의 첨단 미세 공정 노광 장비의 중국 수출을 제한했다. 반도체 업계에서는 일반적으로 14나노를 기준으로 그 이하를 미세 공정으로, 그 이상을 성숙 공정으로 구분한다.

이번 SMEE의 노광 장비 개발 성공에 대해 ASML의 EUV 노광 장비에 비해선 한참 뒤처져있지만, 중국이 반도체 성숙 공정에 집중하고 있는 만큼 28나노 노광 장비의 개발은 중요한 성취라고 SCMP는 설명했다.

다만 SCMP는 SMEE의 28나노 노광 장비 개발에 대한 첫 공식 확인이 이뤄진 것이지만, 이후 중국 매체들의 보도는 검열됐다고 전했다.

김홍범 기자 kim.hongbum@joongang.co.kr