중국에 삼성전자 ‘복제 공장’ 세우려던 전 임원 보석 석방

손재호 2023. 11. 14. 17:01
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삼성전자 반도체 공장 설계자료를 빼돌려 중국에 이른바 '복제판 공장'을 지으려던 삼성전자 전직 임원이 보석 석방돼 불구속 상태에서 재판을 받게 됐다.

A씨는 2018년 8월부터 2019년까지 삼성전자 반도체 공장 BED(반도체 제조가 이뤄지는 공간에 불순물이 존재하지 않는 최적환경을 만들기 위한 기술)와 공정 배치도, 설계도면 등을 부정 취득·사용한 혐의를 받고 있다.

검찰에 따르면 자본과 인력을 확보한 A씨는 중국 삼성전자 반도체 복제판 공장 건설에 착수했다.

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삼성전자 직원들이 평택캠퍼스 생산라인을 돌아보고 있다. 삼성전자 제공


삼성전자 반도체 공장 설계자료를 빼돌려 중국에 이른바 ‘복제판 공장’을 지으려던 삼성전자 전직 임원이 보석 석방돼 불구속 상태에서 재판을 받게 됐다.

14일 법조계에 따르면 수원지법 형사14단독 이지연 판사는 A씨(65) 측이 지난 8월 25일 신청한 보석 청구를 이달 10일 인용했다.

A씨 측은 앞서 “피고인은 수사에 성실하게 임했고, 현재 출국이 금지된 상태다. 방어권 보장을 위해 불구속 상태에서 재판을 받을 수 있도록 해달라”며 보석을 신청했다.

재판부는 이에 대해 “보석할 만한 타당한 이유가 있다”면서도 A씨가 3일 이상 여행할 시 법원에 신고할 것, 증인 등 사건 관계자들과 사적 만남에 제한을 둘 것을 보석 조건으로 제시했다.

보석보증금은 5000만원이며, 보증보험증권으로 갈음키로 했다.

검찰은 산업기술보호법 위반 및 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 지난 6월 A씨를 구속기소했다.

A씨는 2018년 8월부터 2019년까지 삼성전자 반도체 공장 BED(반도체 제조가 이뤄지는 공간에 불순물이 존재하지 않는 최적환경을 만들기 위한 기술)와 공정 배치도, 설계도면 등을 부정 취득·사용한 혐의를 받고 있다.

이들 모두 삼성전자가 30년 넘게 시행착오를 겪으며 개발한 기술이다. 특히 BED와 공정 배치도는 ‘30나노 이하급 D램 및 낸드플래시를 제조하는 반도체 공정 관련 기술’로 관련 고시에 따라 ‘국가핵심기술’로 분류된다.

A씨는 삼성전자에서 18년간 근무하며 반도체 분야 임원을 역임한 뒤 하이닉스반도체로 자리를 옮겨 부사장 등을 지냈다.

A씨는 ‘반도체 제조 분야 권위자’라는 점을 앞세워 2018년 중국 청두시로부터 자본 약 4600억원을 끌어와 중국에 반도체 제조 업체 B사를 세웠다.

그는 또 대만 전자제품 생산 업체 C사 자본(약 8조원)으로 싱가포르에 반도체 업체 D사를 만들었다.

A씨는 이어 삼성전자와 SK하이닉스 인력 200명에게 ‘고액 연봉’을 약속하며 영입했다.

검찰에 따르면 자본과 인력을 확보한 A씨는 중국 삼성전자 반도체 복제판 공장 건설에 착수했다.

공장 부지는 삼성전자 반도체 공장과 불과 1.5㎞ 떨어진 곳이었다.

A씨는 이 과정에서 D사 직원들에게 ‘삼성전자 반도체 설계 자료 등을 입수해 활용하라’고 지시했고, 직원들은 범행에 가담했다.

다행히 C사가 A씨에게 약정한 8조원 투자가 불발되면서 공장이 실제로 건설되지는 않았다.

다만 B사는 지난해 연구·개발(R&D)동을 완공해 삼성전자 반도체 기술이 적용된 반도체 시제품을 생산한 것으로 알려졌다.

손재호 기자 sayho@kmib.co.kr

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