'반도체 기술 유출' 前 삼성전자 직원, 1심 집유→2심 실형

항소심 재판부 "안보 및 경제에 막대한 피해 줄 우려있어" 판단

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삼성전자의 반도체 기술을 빼돌린 혐의로 1심에서 집행유예를 선고받았던 전직 삼성전자 엔지니어가 2심에서 실형을 선고받고 법정 구속됐다.

17일 법조계 및 복수언론에 따르면, 서울고등법원 형사7부(재판장 이규홍)는 지난 14일 A(44)씨에게 징역 1년 6개월과 벌금 1000만원을 선고했다.

앞서 1심 재판부는 A씨에게 징역 1년 6개월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고했다. 당시 검찰은 A씨가 국가 안보와 국민경제에 막대한 피해를 줄 수 있는 반도체 초미세 공정기술을 부정으로 취득해 사익 목적으로 활용했다며 항소했다.

검찰은 "항소심 재판부는 검찰의 항소를 받아들여, 유출될 경우 국가의 안전보장 및 국민경제에 막대한 피해를 줄 우려가 있는 반도체 초미세 공정기술을 취득·유출한 범죄의 중대성, 범행의 내용, 수법에 비춰 피고인의 죄책이 무거움에도 피고인이 공판 과정에서 혐의를 극히 일부만 인정하면서 반성하지 아니한 점 등을 고려해 피고인에게 실형을 선고했다"고 밝혔다.

한편, 삼성전자에서 반도체 관련 업무를 맡았던 A씨는 외국 경쟁 업체인 인텔 입사를 위해 최신 반도체 초미세 공정과 관련된 국가 핵심 기술과 영업 비밀 등 33개 파일을 유출한 혐의를 받는다.