‘핵심기술 유출’ 삼성전자 前직원, 항소심서 법정구속

1심서 집행유예→2심서 실형
징역 1개월, 벌금 1000만원

국민일보 그래픽

반도체 초미세 공정과 관련한 국가 핵심 기술과 영업비밀을 외국 기업에 유출하려 한 혐의로 기소돼 1심에서 집행유예를 선고받았던 전직 삼성전자 직원이 항소심에서 실형을 받고 법정구속됐다.

17일 서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 이성범)에 따르면 서울고법은 지난 14일 부정경쟁방지법 위반·산업기술보호법 위반 혐의 등으로 재판에 넘겨진 삼성전자 엔지니어 출신 최모(44)씨에게 징역 1년6개월과 벌금 1000만원을 선고했다.

앞서 1심에서 검찰은 최씨에게 징역 5년에 벌금 1억원을 구형했지만, 재판부는 징역 1년6개월에 집행유예 2년, 벌금 1000만원을 선고했다. 당시 검찰은 항소했다. 최씨는 결국 항소심에서 법정구속됐다.

최씨는 삼성전자 엔지니어로 근무하면서 미국 반도체 기업 인텔에 파운드리(반도체 위탁 생산) 핵심 기술을 담은 파일을 유출하려 한 혐의로 기소됐다.

당시 최씨는 인텔로 이직을 준비하던 중이었다. 반도체 초미세 공정과 관련한 33개 파일을 외부에서 열람한 뒤 촬영해 빼돌린 것으로 드러났다.

김철오 기자 kcopd@kmib.co.kr

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