마이크론, 日에 4조8500억 투자 최첨단 D램 생산한다
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미국 반도체 기업 마이크론이 일본에서 최첨단 D램을 만들기로 했다.
마이크론은 5000억엔(약 4조8500억원)을 투자해 일본 히로시마 공장에 극자외선(EUV) 공정을 도입, 10나노 6세대(1감마) 공정의 차세대 D램을 생산할 계획이라고 18일 밝혔다.
기시다 총리는 이날 도쿄 총리관저에서 삼성전자, TSMC, 인텔, IBM, 마이크론, 어플라이드 머티어리얼즈, 벨기에 반도체 연구소 아이멕(IMEC) CEO들을 만나 일본 내 투자를 당부했다.
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기시다, 삼성·TSMC 등에도 러브콜
미국 반도체 기업 마이크론이 일본에서 최첨단 D램을 만들기로 했다. 기시다 후미오 일본 총리는 다른 반도체 기업들에도 일본 투자 확대를 요청했다.
마이크론은 5000억엔(약 4조8500억원)을 투자해 일본 히로시마 공장에 극자외선(EUV) 공정을 도입, 10나노 6세대(1감마) 공정의 차세대 D램을 생산할 계획이라고 18일 밝혔다. 이는 일본에서 최초로 EUV를 활용한 생산에 나서는 사례라고 마이크론은 강조했다. 마이크론은 EUV 장비업체 ASML로부터 장비를 확보할 예정이며, 2025년부터 일본과 대만에서 1감마 공정의 D램 생산에 나설 계획이다.
산제이 메흐로트라 마이크론 최고경영자(CEO)는 “히로시마 사업장은 지난 10년간 업계를 선도하는 메모리 기술 개발·생산의 중심이었다. 일본 최초로 EUV 공정을 도입해 1감마 D램을 개발·생산하게 된 것을 자랑스럽게 생각한다”고 말했다.
이번 투자는 일본 정부로부터 보조금을 받는 걸 전제로 한다. 일본 정부는 마이크론에 2000억엔 규모의 보조금을 지급할 예정이라고 블룸버그통신이 전했다.
기시다 총리는 이날 도쿄 총리관저에서 삼성전자, TSMC, 인텔, IBM, 마이크론, 어플라이드 머티어리얼즈, 벨기에 반도체 연구소 아이멕(IMEC) CEO들을 만나 일본 내 투자를 당부했다. 기시다 총리는 “(외국 기업이) 대일 직접 투자를 한층 더 늘리게 하고, 반도체 산업을 지원하는 데 힘쓰겠다”고 강조했다.
이날 면담에서 인텔이 후공정 부문에서 일본 제조장비업체와 협력을 확대하는 방안에 대한 제안이 있었다고 로이터통신이 전했다. 삼성전자는 요코하마에 반도체 연구개발 생산 시설을 만들기로 했고, 어플라이드 머티어리얼즈는 일본 민관 반도체 기업 라피더스와 반도체 인재육성을 포함한 협력 강화 계획을 밝혔다. 구마모토에 반도체 공장을 건설 중인 TSMC는 “고객 수요와 일본 정부의 지원을 전제로 일본 내 추가 투자를 검토할 것”이라고 말했다. 일본 정부는 다음 달 마련할 경제재정운영지침에 반도체 산업 지원 방안을 포함할 계획이다.
김준엽 기자 snoopy@kmib.co.kr
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