국일그래핀, 그래핀 펠리클 개발 글로벌 기업 협력 추진

[아시아경제 박형수 기자] 국일제지는 자회사 국일그래핀이 그래핀 펠리클(Pellicle) 부품 개발을 추진하는 데 힘입어 글로벌 기업과 협력 방안을 논의할 것이라고 28일 밝혔다.

국일그래핀은 지난달 그래핀 펠리클 부품 개발을 추진한다는 발표에 이어 투과율 85%이상 가능한 기술 개발 성과를 위해 연구중이다.

펠리클은 빛으로 반도체 웨이퍼에 회로를 찍는 노광공정에 사용되는 오염방지 부품이다. 포토마스크 교체 주기를 줄여 공정비용 절감과 생산성 향상에 효과적이다. 업계에서는 펠리클 도입을 필수로 보고 있어 대기업도 상용화를 위한 투자확대뿐만 아니라 자체 개발과 외부 협력을 동시에 추진하고 있다.

극자외선(EUV) 펠리클은 수십nm 미만의 얇은 두께를 유지하면서도 90% 투과율, 균일성, 반사율 등 다양한 사양을 동시 충족해야 한다. 어려운 조건에도 EUV공정을 적용한 반도체 생산량과 EUV 레이어 수가 증가하면서 펠리클 및 검사 장비의 수요가 증가하고 있다. 현재 펠리클의 연 시장규모는 4조5000억원 규모에 이를 것이라 추정했다.

회사 관계자는 "자사에서 컨퍼러스 콜 및 지난주 해외방문을 통해 다국적 기업 A사 등과 지속적 논의를 진행하고 있다"며 "협력방안 추진을 위한 자사 방문 일정이 구체적으로 정해지고 있어 앞으로 시장 진입시점이 구체화되는 계기가 될 것"이라고 말했다.

박형수 기자 parkhs@asiae.co.kr