세메스, 반도체 고온 매엽인산 세정장비 개발…"불순물 제거 90%↑"

국내 반도체 장비업체 세메스가 반도체 제조용 고온 매엽인산 세정장비인 블루아이스 프라임을 새롭게 개발했다.ⓒ세메스

국내 반도체 장비업체 세메스는 반도체 제조용 고온 매엽인산 세정장비인 블루아이스 프라임을 새롭게 개발했다고 7일 밝혔다.

매엽식 인산 공정은 웨이퍼 상부에 170℃ 이상의 고온 인산(H3PO4)을 토출, 패턴면을 처리하는데 있어 식각 균일도 및 불순물 제거 기술 확보가 어려워 많은 기업들이 개발에 실패했었다.

세메스는 자체 개발한 척(Chuck)으로 웨이퍼를 고온으로 히팅, 웨이퍼 중앙과 가장자리의 온도 균일도를 높이는 한편 기존 배치타입 습식 세정방식의 한계로 지적됐던 불순물 제거율을 90% 이상 향상시켜 매엽식 인산 공정의 기술적 차별화에 성공했다고 설명했다.

또한 작업과정에서 발생하는 오폐수를 최소화하기 위해 케미컬 리사이클링 기술 개발, 90% 이상의 케미컬 재사용이 가능할 수 있도록 했다. 최근 반도체 장비 수요업체에서 요구하는 친환경 그린팹(공장) 설비에 적합하다는 것이 회사측의 설명이다.

정태경 대표는 “현재 고온 매엽인산 기술은 산자부 국가 첨단기술 및 제품으로 등록됐다. 앞으로 다양한 반도체 공정기술이 융복합화된 신제품 개발을 통해 매 출확대 뿐만 아니라, 친환경 설비 경쟁력을 확보해 나갈 방침”이라고 말했다.