반도체 국가핵심기술 중국 유출 대기업 전 직원 등 특허청 기술경찰에 덜미

반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 개인 휴대전화로 사진 촬영해 유출

특허청 김시형 산업재산보호협력국장이 26일 정부대전청사 브리핑룸에서 반도체 국가핵심기술 해외유출조직 검거와 관련한 브리핑을 하고 있다. / 대전=박종명 기자

[더팩트 | 대전=박종명 기자] 국가핵심기술인 반도체 웨이퍼 연마 공정 기술 등을 중국에 유출한 국내 대기업과 중견기업의 전 직원 등 6명이 특허청 기술경찰에 덜미를 잡혔다.

특허청 기술디자인특별사법경찰과 대전지방검찰청은 반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 기술을 중국에 유출하려한 국내 대기업·중견기업의 전 직원 3명을 구속하는 등 6명을 산업기술보호법 및 부정경쟁방지법 위반 혐의 등으로 기소했다고 26일 밝혔다.

이들은 컴퓨터 또는 업무용 휴대전화로 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 회사의 기밀 자료를 열람하면서 개인 휴대전화로 사진촬영하는 수법 등으로 유출한 혐의를 받고 있다.

자료에는 반도체 웨이퍼 연마공정 관련 국가핵심기술이자 영업비밀은 물론 반도체 웨이퍼 연마제·패드(CMP 및 연마패드 관련 첨단기술 등이 포함돼 있다.

A사 전 직원인 주범인 ㄱ씨(55)는 2019년 8월부터 2020년 1월 반도체 웨이퍼 연마제·패드 관련 보안자료를 컴퓨터 화면에 띄워 놓고 휴대전화로 촬영해 유출한 혐의다.

특허청 기술경찰은 2022년 3월 국정원 산업기밀보호센터로부터 중국 업체로 이직한 B사의 연구원 2명에 대한 첩보를 받아 수사에 착수, 4월 코로나 방역이 완화되면서 일시 귀국한 이들의 소재지를 찾아 압수수색 영장을 집행하며 신속하게 증거를 확보했다.

범행개요도 / 특허청 제공

이 과정에서 반도체 웨이퍼 연마기술의 무단 유출 및 사용 증거 등을 다량 확보하고, 디지털포렌식 증거 분석을 통해 연구원들의 이직을 주도한 추가 공범 4명이 있다는 사실과 함께 A사 및 C사의 영업비밀까지 유출된 정황을 발견해 추가 입건했다.

이를 통해 주범 3명(ㄱ, ㄴ, ㄷ씨)을 구속 기소 의견으로, A·B사의 전·현직원 3명(ㄹ, ㅁ, ㅂ씨)은 불구속 기소 의견으로 검찰에 송치했다.

김시형 특허청 산업재산보호협력국장은 "피해 기업 3사 중 규모가 가장 작은 B사의 경우만 기술유출로 인해 1000억원 이상의 경제적 피해가 발생했다"며 "ㄱ씨 등이 유출한 자료로 중국에서 본격적인 사업을 진행하기 전에 구속함으로써 추가적인 경제적 피해를 차단할 수 있었다"고 말했다.

이어 "특허청은 기술경찰의 역할을 더욱 강화해 우리의 국가 핵심기술을 지켜내는데 앞장서겠다"고 덧붙였다.

한편 최근 5년(2017~2022년 9월) 기술 해외유출 건수는 모두 112건으로 피해액이 26조931억원에 달하는 것으로 나타났다. 이 중 36건이 국가 핵심 기술이다.

thefactcc@tf.co.kr

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