“4조3천억 국가핵심 반도체 기술”… 前 삼성 임원이 중국에 홀랑 빼돌려

개발비용 약 4조3000억 투입된 기술 해외 유출
청두가오전 최모 대표·오모 실장 구속 송치

삼성전자가 수조원을 투입해 개발한 국가 핵심 반도체 기술을 빼돌려 중국에서 합작회사를 세운 전직 임원이 구속 상태로 검찰에 넘겨졌다. 경찰은 피해기술의 경제적 가치가 약 4조3000억원에 달하는 것으로 보고 있다.

서울경찰청 산업기술안보수사대는 10일 중국 반도체 제조업체 청두가오전(CHJS) 대표 최모(66)씨와 공정설계실장 오모(60)씨를 산업안전기술법 위반과 부정경쟁방지 및 영업비밀보호법 위반 혐의, 업무상 배임 혐의로 구속 송치했다고 밝혔다.

서울경찰청에 따르면 최씨 등 2명은 2020년 9월쯤 중국 지방정부와 합작으로 반도체 제조업체 청두가오전을 설립, 국내 반도체 전문인력을 대거 이직시켜 국내 삼성전자의 20나노급 D램 메모리 반도체 공정단계별 핵심기술을 유출, 부정사용한 혐의를 받는다.

유출된 국가핵심기술은 반도체 공정의 순서와 각 공정의 주요 조건을 정리한 PRP(반도체 공정 종합 절차서), 수율·신뢰성·품질 등 반도체를 구성하는 요소들의 목표 스펙인 MTS(최종 목표 규격) 등 반도체 핵심 기술이다.

경찰은 지난해 2월쯤 첩보를 입수하고 입건 전 조사(내사)에 착수, 중국 현지에서 관련자 진술과 기술자료를 확보한 뒤 피의자 주거지와 사무실을 압수수색하는 등 수사를 이어왔다.

최씨는 국내 대표적인 반도체 회사 임원을 역임하는 등 국내 반도체 업계 권위자로 확인됐으며, 2015년 싱가포르에서 반도체 업체를 처음 설립해 2018년까지 주로 반도체 컨설팅 사업을 영위한 것으로 조사됐다.

이후 해외 반도체 공장 건설을 추진하다 실패하자 중국 지방 정부의 투자를 받아 2020년 9월 청두가오전을 설립한 것으로 확인됐다.

경찰은 최씨가 퇴사 후 외국에서 반도체 관련 회사를 설립해 컨설팅 사업을 하던 중 이같은 범행을 저지른 것으로 보고 있다. 경찰은 이 사건과 관련, 청두가오전으로 이직한 임직원들도 추가로 입건해 관련 혐의에 대한 수사를 진행 중이다.

또 국내 핵심 기술인력이 해외로 이직하는 과정에서 기술 유출을 위한 불법 인력송출이 있었는지 등도 함께 조사하고 있다. 인력송출과 관련해 입건된 인원은 30여명에 달한다.

경찰에 따르면 삼성전자 18나노급 공정 개발비용은 약 2조3000억원, 20나노급 공정 개발 비용은 약 2조원에 달하는 등 피해기술의 경제적 가치는 약 4조3000억원에 이른다.

경제효과 등을 감안할 때 실제 피해금액은 가늠하기 어려운 수준이다. 경찰은 기술의 추가 유출 가능성도 열어두고 수사 중이다.

삼성전자는 20나노급 D램 개발을 위해 연구원 최소 1000명 이상을 투입했으나, 청두가오전은 이러한 연구개발 과정 없이 삼성전자의 수십년간 노하우를 부당하게 취득해 시범 웨이퍼 생산 수준까지 진입했다.

이전 세대 D램 개발 경험이 있는 반도체 제조회사들도 일반적으로 새로운 세대의 D램 반도체 개발에는 최소 4~5년이 소요되는 것이 통상적인데, 이와 비교하면 매우 빠른 수준이라는 평가다.

청두가오전은 지난해 6월쯤 20나노급 D램 개발에 성공한 뒤 양산을 위해 수율을 높여가는 단계였으나, 본건 수사로 공장 운영이 중단됐다. 유출 기술로 인한 실질적 수익은 없는 것으로 파악됐다.

경찰 관계자는 “기술을 유출한 추가 국내 기술인력과 이와 관련한 인력 송출 혐의에 대해서도 엄정하게 수사를 진행할 계획”이라고 말했다.

김경호 기자 stillcut@segye.com

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