승진 물 먹자 반도체 핵심기술 中유출 시도... 6명 기소

국내 대기업 등 3곳 전·현직 6명
최소 1000억 피해 입힌 혐의 기소

반도체 핵심 기술을 중국에 빼돌리려던 국내 대기업·중견기업 직원들이 적발돼 재판에 넘겨졌다.

특허청 기술디자인특별사법경찰과 대전지방검찰청은 “반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 기술을 중국에 유출하려 한 국내 대기업과 중견기업 두 곳의 전·현직 직원 6명을 기소했다”고 26일 밝혔다. 이번 사건은 기술경찰이 구속영장을 신청해 주범을 구속한 뒤 검찰에 송치한 첫 사례다.

특허청에 따르면, 주범인 중견기업 A사 직원은 임원 승진에 탈락하자 2019년 6월 중국업체와 반도체 웨이퍼 연마제 제조사업을 동업하기로 했다. 그는 A사 근무 중에도 중국 사업을 관리하다 2020년 5월 중국 업체의 사장급으로 이직하고 중견기업 B사와 대기업 C사 연구원들을 스카우트해 중국 업체에 이직시켰다. 이들은 컴퓨터와 업무용 휴대전화로 회사 내부망을 접속해 기밀 자료를 열람하고 개인 휴대전화로 사진 촬영을 해 유출한 혐의를 받는다. 유출하려던 자료는 영업비밀이었으며, 그중에는 국가 핵심기술도 포함됐다. 증시 상장사인 A·B·C사의 시가총액 합은 66조원에 달한다.

기술경찰은 지난해 3월 국정원으로부터 첩보를 받아 수사에 착수했고, 중국 업체로 이직한 직원들이 코로나로 한국에 잠시 귀국했을 때 이들을 추적해 증거를 확보했다. 기술경찰은 3명을 구속, 3명을 불구속 기소의견으로 검찰에 송치했고, 대전지검은 이달 이들을 산업기술보호법 및 부정경쟁방지법 위반 혐의 등으로 기소했다.

특허청은 “피해 기업들 중 규모가 가장 작은 B사는 기술 유출로 인해 1000억원 이상의 경제적 피해가 발생했다”며 “일당이 유출한 자료로 중국에서 본격적인 사업을 진행하기 전에 구속해 추가적인 피해를 차단했다”고 했다.