中 창신메모리에 기술 유출‥前 삼성 직원, 2심서 징역 5년 ‘2년 감형’

삼성전자 D램 공정 기술 中 CXMT에 유출
1심 징역 7년서 항소심 징역 5년 감형
法, 관련 재판 증언·혐의 인정 등 고려

중국 반도체 업체 CXMT(창신메모리테크놀로지)로 이직하는 과정에서 반도체 공정 기술을 유출한 혐의로 기소된 전직 삼성전자 직원이 항소심에서 감형을 받았다.

서울고법 형사3부(재판장 이승한 부장판사)는 22일 산업기술의유출방지및보호에관한법률위반(국가핵심기술국외유출등) 등 혐의로 재판에 넘겨진 전 모 씨에게 원심인 징역 7년을 파기하고 징역 5년을 선고했다.

전 씨는 전직 삼성전자 부장 김 모 씨와 함께 CXMT로 이직하는 과정에서 삼성전자의 D램 반도체 공정 기술을 중국 기업에 유출한 혐의로 지난해 5월 재판에 넘겨졌다.

1심 재판부는 지난 4월 유출된 기술이 국가 핵심 기술에 해당하고, 유출 과정에서 전 씨가 공모했다는 점을 인정해 징역 7년을 선고했다.

항소심 재판부는 이날 전 씨의 범행으로 삼성전자에 회복할 수 없는 피해가 발생했고, 국가 차원의 산업 경쟁력에도 위협이 생긴 점을 지적했다.

다만 재판부는 전 씨가 개발 업무에 직접 관여하지 않은 점, 해당 사건과 관련한 다른 재판에 증인으로 출석해 증언한 점 등을 감형 사유로 삼았다. 재판부는 전 씨의 증언 등이 관련자 재판에서 실체적 진실을 밝히는 데 도움을 주고 있다고 판단했다. 아울러 전 씨가 항소심에 들어서 공소사실 혐의를 인정하고, 반성하는 점 등을 고려해 원심보다 형을 감형했다.

전 씨는 항소심에서 삼성전자 출신 개발자가 기억만으로는 PRP(반도체 제조 핵심 레시피)를 재현하는 것은 어렵다고 주장했다. 이어 CXMT 근무 당시 검찰 국가정보원 등의 수사에 대비했다는 사실도 인정했다.

한편 지난 2016년 CXMT로 이직하며 핵심 공정 관련 기술자료를 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 김 씨의 경우 파기환송심에서 징역 6년 4개월을 선고받았다.

임종현 기자 s4our@sedaily.com