[단독] SK하이닉스, 中 낸드 생산 50% 늘린다

■다롄 2공장 4년만에 투자 재개
11월 장비 반입·내년 상반기 가동
웨이퍼 투입능력 월간 5만장 확대
韓 고적층·中은 저단 ‘투트랙 생산’

SK하이닉스 자회사 솔리다임의 중국 다롄 팹(Fab) 내부. SK하이닉스는 2021년 인텔 낸드사업부 인수를 완료하고 솔리다임을 출범했다. 솔리다임

SK하이닉스(000660)가 중국 다롄의 낸드플래시 생산 거점에 2공장 투자를 재개해 생산능력을 약 50% 확대한다. 4년 전 착공에 나섰던 다롄 2공장은 메모리 불황이 닥치자 장기간 사업이 중단된 상황이었다. SK하이닉스는 연말까지 반도체 생산 장비를 투입하고 내년 상반기 내 공장을 본격 가동할 계획이다.

11일 반도체 업계에 따르면 SK하이닉스의 낸드 자회사인 솔리다임은 올해 상반기부터 다롄 2공장 투자를 재개하며 공장동 건축을 마쳤고, 이르면 11월부터 생산 장비 반입을 시작해 내년 상반기에는 양산 체계를 갖추고 낸드플래시를 만들 계획이다. 신규 라인의 웨이퍼 투입 능력은 월 5만 장 수준으로 알려졌다. 기존 다롄 1공장의 월 10만 장과 합치면 현지 생산능력이 약 50% 늘어나는 셈이다.

다롄 투자의 시계는 인공지능(AI) 데이터센터 확산으로 기업용 솔리드스테이트드라이브(eSSD) 수요가 급증해 낸드 가격이 1년 만에 10배 가까이 뛰자 4년 만에 다시 돌고 있다. SK하이닉스는 2021년 인텔의 낸드 사업을 인수해 솔리다임을 출범시키며 다롄 1공장과 부지를 넘겨받아 이듬해 5월 2공장 건설에 들어갔다. 하지만 메모리 불황에 미국의 대중 반도체 장비 규제까지 덮쳐 다롄 2공장은 골조만 지어진 채 진전이 없었다.

SK하이닉스는 다롄 2공장 투자를 통해 낸드 생산 및 판매 전략을 투 트랙으로 설정했다. 다롄에서 성숙 기술 기반의 범용 낸드를, 청주에서는 첨단 고적층 낸드를 생산하는 전략이다. 다롄에서는 인텔의 성숙 낸드 소자 구조인 플로팅게이트(FG) 기반 100단급 낸드를 중심으로 생산성을 높이고, 300단 이상 고적층 낸드는 청주 M17 등 국내 생산을 집중할 것으로 전망된다.

회사 측은 앞서 청주 M17 팹에 19조 1000억 원을 투입해 2028년 말 첫 클린룸을 열고 차세대 낸드 제품을 생산한다고 밝힌 바 있다. 업계 관계자는 “다롄 2공장은 기존 1공장과 동일한 장비로 구성할 계획”이라며 “월 4만~6만 장 수준의 웨이퍼 투입 능력을 갖출 것으로 안다”고 말했다.

이석진 기자 sj@sedaily.com