겁도 없이 반도체 기밀 ‘찰칵’ 찍어 넘겼다가...TSMC 전직 직원, 최고 10년형 선고

TSMC. 연합뉴스

세계 최대 파운드리 기업 TSMC의 첨단 2나노(㎚) 공정 기술 유출 사건 관련자들에게 최대 징역 10년의 중형이 선고됐다. 대만 사법당국이 국가핵심 기술 유출에 대해 강경 대응에 나섰다는 평가다.

27일(현지시간) 대만중앙통신(CNA)과 블룸버그통신 등에 따르면 대만 지식재산·상업법원은 국가보안법상 ‘국가핵심 주요기술 영업비밀의 역외 사용’ 혐의 등으로 기소된 TSMC 전 직원 천리밍에게 징역 10년을 선고했다.

앞서 검찰은 천리밍이 TSMC 퇴직 후 일본 반도체 장비업체 도쿄일렉트론으로 이직한 뒤, TSMC에 재직 중이던 엔지니어들로부터 2나노 공정 관련 기술 도면과 자료를 넘겨받았다며 징역 14년을 구형한 바 있다.

천리밍과 함께 기소된 관련자들에 대해서도 유죄가 인정됐다. 현직 TSMC 엔지니어 우핑쥔과 거이핑은 각각 징역 3년과 2년을 선고받았고, 또 다른 엔지니어 천웨이제는 영업비밀 유출 혐의로 징역 6년을 선고받았다. 도쿄일렉트론 직원 루이인은 징역 10개월에 집행유예 3년을 선고받았다.

법원은 법인 책임도 인정했다. 도쿄일렉트론 대만 지사에는 1억5000만 대만달러(약 70억원)의 벌금을 부과하고, TSMC에 1억 대만달러(약 46억8000만원)를 배상하도록 했다. 공공기금 납부 명령도 함께 내려졌다.

검찰에 따르면 천리밍은 과거 TSMC 팹12(Fab 12) 수율 부서에서 근무하다 퇴사한 뒤 도쿄일렉트론으로 옮겼다. 이후 2023년 하반기부터 2024년 상반기까지 도쿄일렉트론이 TSMC의 차세대 공정 장비 공급망에 진입할 수 있도록 돕기 위해 현직 엔지니어들에게 접근한 것으로 조사됐다.

그는 우핑쥔과 거이핑 등에게 핵심 기술과 영업비밀 제공을 지속적으로 요구했고, 해당 자료는 휴대전화 촬영 및 복제 방식으로 외부로 유출된 것으로 파악됐다. 검찰은 이 정보가 식각 장비 성능 개선에 활용돼 TSMC의 2나노 공정 라인 납품 자격 확보에 쓰이려 했다고 보고 있다.

TSMC는 내부에서 이상 징후를 포착한 뒤 자체 조사를 진행해 전·현직 직원들이 핵심 기술을 불법 취득한 정황을 확인하고 지난해 7월 8일 당국에 고발했다. 이후 수사당국은 같은 달 25일부터 28일까지 압수수색과 조사를 벌여 관련자들을 구속했고, 8월 27일 국가보안법과 영업비밀보호법 위반 혐의로 기소했다.

수사 과정에서는 도쿄일렉트론의 클라우드 저장소에 14나노 이하 공정의 집적회로(IC) 제조 기술과 관련 가스·화학물질·장비 정보 등 TSMC의 핵심 기밀이 보관돼 있었던 사실도 드러났다. 검찰은 올해 1월 수사를 확대해 추가 인물과 법인을 기소했다.

대만 검찰은 이번 사건에 대해 “대만 반도체업계의 국제 경쟁력을 심각히 위협하는 사건”이라고 강조했다. 블룸버그는 천리밍에게 중형이 선고된 배경에 대해 “핵심 반도체 기술 보호를 강화하려는 대만 정부의 의지가 반영된 것”이라고 평가했다.

김여진 AX콘텐츠랩 기자 aftershock@sedaily.com