아이에스티이 장비, SK하이닉스 성과공유회서 소개

플라즈마화학기상증착 장비 국산화

아이에스티이는 SK하이닉스가 개최하는 ‘기술혁신기업 성과 공유 및 협약 체결식’에서 자사 플라즈마화학기상증착(PECVD) 장비의 성과를 공유하는 자리를 가졌다고 25일 밝혔다.

아이에스티이에 따르면 지난 22일 SK하이닉스 이천 본사에서 열린 기술혁신기업 8기 협약식 및 7기 성과 공유회에서 아이에스티이의 ‘화학기상증착(CVD) 장비 국산화’ 사례가 공유됐다.

‘기술혁신기업’은 SK하이닉스가 반도체 소재·부품·장비 분야에서 국산화 잠재력이 높은 협력사를 선정해 집중 육성하는 동반성장 프로그램이다. 기술혁신기업에 선정된 기업은 최대 3년간 SK하이닉스와 공동 기술 개발, 기술 개발 자금 무이자 대출 지원, 경영 컨설팅을 비롯한 혜택을 제공받게 된다. 아이에스티이는 기술혁신기업 7기로 선정된 바 있다.

아이에스티이가 지난 1월 제출한 증권신고서에 따르면 회사는 반도체 공정장비인 실리콘 카본 나이트라이드(SiCN) 공정용 PECVD 장비를 2023년 말 SK하이닉스에 공급했고, 지난해 품질 검사(Qual Test)를 마친 뒤 양산성 볼륨 평가를 진행 중이다.

진병주 아이에스티이 부사장은 “이번 성과는 2023년 납품을 시작한 반도체 SiCN 공정용 PECVD 장비로, 그간 품질 신뢰성 테스트와 양산 테스트를 진행한 성과를 고객과 산업 내 많은 경영진들과 공유한 것”이라고 설명했다.

조창현 아이에스티이 대표는 “국내 반도체 40여 년 장비시장 역사에서 국산화에 성공한 반도체 핵심장비가 당사의 장비인 것을 매우 뜻깊게 생각한다”며 “반도체 장비 국산화를 위해 적극 협력해준 고객사 임직원과 매우 어려운 기술임에도 불구하고 성공적으로 제품을 완성한 회사 임직원에 감사의 말을 전하고 싶다”고 말했다.