검찰, ‘삼성전자 반도체 기술 유출’ 前 삼성전자 직원 구속 기소

삼성전자 반도체 공정 정보 中 무단 유출
허위 회사 설립해 이직하는 것처럼 꾸며 수사 대비

(시사저널=문경아 디지털팀 기자)

삼성전자의 반도체 핵심 기술을 중국에 유출한 혐의를 받는 전 삼성전자 직원이 구속 상태로 재판에 넘겨졌다.

2일 서울중앙지검 정보기술범죄수사부(안동건 부장검사) 삼성전자에서 중국 CXMT(창신메모리반도체테크놀로지)로 이직한 전직 삼성전자 연구원 전아무개씨를 산업기술보호법 위반(국가 핵심 기술 국외 유출) 등 혐의로 구속기소했다고 밝혔다.

검찰은 지난달 14일 법원에서 전씨에 대한 구속영장을 발부받아 신병을 확보했다.

검찰에 따르면, 전씨는 삼성전자에서 중국 반도체 제조업체 CXMT로 이직한 후 삼성전자가 1조6000억원을 들여 개발한 18나노 D램 공정 정보를 무단 유출해 사용한 혐의를 받는다.

전씨는 삼성전자 부장 출신인 김아무개씨와 함께 CXMT로 이직하면서 삼성전자의 기술을 빼돌렸으며, 핵심 인력을 영입하는 방식의 CXMT 내 D램 반도체 개발 계획을 수립한 것으로 조사됐다. 검찰은 김씨에 대한 추가 수사를 통해 이번 사건을 확인했다.

CXMT는 중국 지방정부가 2조6000억원을 투자해 설립한 중국 최초의 D램 반도체 회사다.

이들은 자신들의 범행이 들통나 출국금지 되거나 체포될 경우 단체 대화방에 암호(하트 4개)를 남기기로 사전 협의하기도 했다. 또 다른 회사로 이직하는 것처럼 위장하는 등 수사에 대비한 것으로 드러났다.

검찰은 이들이 중국에 전혀 다른 업종의 허위 회사를 만들고 그 회사로 이직하는 것처럼 외관을 꾸민 뒤 실제로는 CXMT에서 근무한 것으로 보고 있다.

전씨는 CXMT로부터 계약 인센티브 3억원, 스톡옵션 3억원 등 약 6년 간 29억원 상당을 지급받았다.

해당 기술 유출로 인해 삼성전자의 지난해 추정 매출감소액만 수조 원에 달하는 등 수십조원의 손해가 발생한 것으로 파악됐다.

검찰은 삼성전자 내부 자료를 유출한 공범에 대해선 국제형사경찰기구(ICAO∙인터폴)을 통해 추적하고 있다.

검찰은 "피해 기업과 국가 경제를 위협하는 기술 유출 범죄에 엄정 대응하겠다"고 밝혔다.

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