中에 반도체 기술 유출 징역 7년…“국가경쟁력 악영향”

삼성전자 공정자료 中 창신메모리에 유출
다시 한국 돌아와 기술 유출 시도
中 투자 받아 반도체 회사 세우기도

서울중앙지방법원 [연합]

[헤럴드경제=박지영 기자]반도체 핵심 기술을 중국 창신메모리테크놀로지에 유출한 혐의를 받는 삼성전자 전 부장이 징역 7년을 선고 받았다. 법원은 삼성전자 뿐만 아니라 국가 산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있다며 꾸짖었다.

서울중앙지방법원 형사25부(부장 지귀연)은 19일 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 삼성전자 전 부장 김모 씨에게 징역 7년과 벌금 2억원을 선고했다. 김 씨와 함께 기소된 삼성전자 협력업체 전 직원 방모 씨는 징역 2년 6개월을 선고 받았다.

국가정보원은 이들의 기술 유출 정황을 포착해 지난 2023년 5월 검찰에 수사를 의뢰했다. 혐의는 크게 2가지다. 첫 번째는 국가 핵심기술인 삼성전자의 D램 공정자료를 부당하게 취득·유출한 혐의다. 검찰은 김 씨가 2016년 삼성전자에서 중국 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 이직하면서 국가 핵심기술을 유출하고 수백억원을 수취한 것으로 파악했다. 삼성전자의 18나노 D램 반도체 증착 공정 관련 자료다.

두 번째는 유진테크 등 삼성전자 협력사의 영업비밀을 취득한 후 중국에 반도체 장비업체를 세우고 유출하려한 혐의다. 이들이 유출하려 한 기술은 ALD(원자층증착) 장비 설계 관련 자료다. 김 씨는 2021년 국내로 들어와 반도체 증착장비를 만드는 A사로 이직했다. 이어 2022년 중국 자본의 투자를 받아 반도체 장비업체 ‘신카이’를 설립했다. 김 씨는 협력사 직원들에게 거액의 연봉을 제시하며 자료를 입수, 사용하려 한 것으로 나타났다.

법원은 김 씨가 주도해 삼성전자의 자료를 유출한 것으로 판단했다. 1심 재판부는 “국가핵심기술에 해당하는 삼성전자 공정 자료를 부정하게 취득해 공개하고 누설, 사용하는 데까지 나아갔다”며 “중국 경쟁업체가 이를 개발한 후 양산에 성공한 점을 감안했을 때 삼성전자가 입은 피해는 어마어마한 액수에 이를 것으로 예상된다”고 했다.

그러면서 “관련 분야의 건전한 경쟁과 거래 질서를 심각하게 저해했다. 피해 회사들의 막대한 시간과 비용을 헛되게 할 뿐만 아니라 대한민국의 국가산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대한 범죄”라고 꼬집었다.

CXMT는 2016년 설립된 기업으로 중국 반도체 굴기의 상징이다. D램 시장은 삼성전자와 SK하이닉스, 미국의 마이크론 3강 체제다. CXMT는 가격경쟁력을 무기로 점유율을 5%까지 확보하면서 마이크론을 추격하고 있다. 올해 말까지 10%대로 점유율이 상승할 것이라는 전망도 있다.

다만 1심 재판부는 유진테크 ALD 기술에 대해서는 산업기술보호법에 따라 보호되는 ‘산업기술’로 보기는 어렵다며 영업비밀 침해 혐의만 인정했다.