그래핀랩, 한양대와 EUV 펠리클 기술 협력…특허 6건 이전

그래핀랩이 한양대와 극자와선(EUV) 펠리클 기술 협력에 나섰다.

그래핀랩은 한양대 EUV 펠리클 제조 관련 특허 기술 6건의 기술 이전을 진행했다고 7일 밝혔다. EUV 펠리클은 첨단 반도체 제조를 위한 EUV 노광 공정에 쓰이는 부품이다. 회로가 미리 그려진 포토마스크를 보호하는 역할을 담당한다.

그래핀랩과 한양대는 지난해 11월 차세대 EUV 펠리클 개발 협력 및 기술 이전 협약을 맺은 바 있다.

회사 관계자는 “이번 기술이전으로 반도체 연구분야에서 선두를 달리고 있는 한양대와 협력 관계를 공고히 하고, EUV 펠리클 제조 관련 기술 특허를 바탕으로 차세대 미래 반도체 분야를 선도할 수 있는 초석을 마련할 수 있게 됐다”고 말했다.

그래핀랩은 최근 국내 차세대 반도체 분야의 저명한 대학기관을 통해 평가용 EUV 펠리클 시편(조각)에 대한 투과율 측정을 진행했다. 측정 결과 투과율 90%를 상회하는 결과를 확보했고 추가로 투과 균일도 또한 0.2~0.3%대의 우수한 결과값을 기록했다.

그래핀랩은 “이번 투과율 및 투과 균일도 확보는 차세대 EUV 펠리클 확보에 있어 상징적인 변곡점이 될 수 있는 결과”라며 “당사 EUV 펠리클 제조 공정 진행에 박차를 가할 수 있을 것으로 기대한다”고 밝혔다. 이어 “현재 샘플 제조 및 각 공정별 추가 개선 작업 또한 지속하고 있기 때문에 EUV 펠리클 시양산 또한 보다 앞당길 수 있을 것”으로 전망했다.

김승국 그래핀랩 부회장(왼쪽)과 변중무 한양대 산학협력단장이 한양대 한양종합기술원에서 EUV 펠리클 기술 이전 협약을 체결했다.

권동준 기자 djkwon@etnews.com