그래핀랩, EUV 펠리클 개발 청신호...투과율 90% 상회

회사 사옥 전경

그래핀랩은 자사 신소재 그래핀 직성장 기술(특허기술)을 기반한 EUV 펠리클 평가 시편 투과율이 90% 상회했다고 11일 밝혔다.

그래핀은 흑연에서 벗겨낸 한 겹의 탄소 원자 막이다. 강철 200배에 이르는 강도와 높은 열 전도성, 얇은 두께와 탄성 등이 특징인 소재다. 기존 전도성 소재와 필름재를 대체할 소재로 꼽힌다.

이번 시험은 국내 대학기관을 통해 이뤄졌다. 회사는 이에 힘입어 샘플 제조와 관련 측정을 진행 중이다.

회사는 현재 EUV 펠리클 제조를 위해 각 공정에 도입한 설비를 가동 중이다. 앞서 도입한 PEALD(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) 장비로 EUV 펠리클의 보호막층을 균일하게 증착하고 있다. 우수한 막질을 유지하고 있다는 게 회사 설명이다.

회사는 하반기 공정 개선에 더욱 고삐를 죈다. 제작 중인 SiNx 두께를 더욱 정밀하게 식각하는 공정 기술을 확보했고, 공정 간 두께 균일도(Uniformity) 확보에도 성공했다.

권용덕 그래핀랩 대표는 “투과율 90%는 지속적인 투자 및 연구개발에 주력한 결과”라며 “우리가 계획한 EUV 펠리클 제조 공정 고도화 과정이 모두 순항 중이라는 점에서 뜻 깊다”고 말했다.

이어 “지속적인 연구개발과 공정 개선을 통해 양산성을 높이며 팰리클 성과를 내겠다”고 말했다.

그래핀랩은 넓은 면적으로 그래핀을 생산하는 '화학기상증착법(CVD) 그래핀 양산 제조생산 방식'을 보유한 회사다. CVD 기술을 이용한 그래핀 제조생산 공장과 설비, 관련 분야 기술진을 보유하고 있다. 회사를 이끄는 권 대표는 산업자원부 주관 그래핀 표준화 작업의 유일한 기업 참여자다.

임중권 기자 lim9181@etnews.com