2차원 나노산화막 형성·시냅스 소자 기술 개발
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충남대는 신소재공학과 최민섭 교수, 성균관대 유원종·박진홍 교수, 한국기초과학지원연구원 정희석 박사 공동 연구팀이 정교한 두께 조절이 가능한 2차원 나노 산화막 형성 기술과 이를 이용한 시냅스 소자 기술을 개발했다고 7일 밝혔다.
기존 단층의 원자층만을 산화시키는 기술을 발전시켜 9층 이상의 원자층 두께를 나노 산화막으로 정교하게 형성할 수 있는 기술이다.
공동 연구팀은 이 기술을 기반으로 형성된 나노 산화막으로 시냅스 소자인 '멤리스터'를 제작했다.
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(대전=연합뉴스) 정찬욱 기자 = 충남대는 신소재공학과 최민섭 교수, 성균관대 유원종·박진홍 교수, 한국기초과학지원연구원 정희석 박사 공동 연구팀이 정교한 두께 조절이 가능한 2차원 나노 산화막 형성 기술과 이를 이용한 시냅스 소자 기술을 개발했다고 7일 밝혔다.
기존 단층의 원자층만을 산화시키는 기술을 발전시켜 9층 이상의 원자층 두께를 나노 산화막으로 정교하게 형성할 수 있는 기술이다.
공동 연구팀은 이 기술을 기반으로 형성된 나노 산화막으로 시냅스 소자인 '멤리스터'를 제작했다.
연구팀은 이 멤리스터가 두께에 따른 상반된 가소성 특성을 띤 덕분에 두뇌의 연접가소성(heterosynaptic plasticity)을 모방할 수 있다는 가능성을 확인했다.
최민섭 교수는 "이번 기술은 차세대 반도체의 도핑 기술, 절연막 형성 기술, 인공지능 소자 기술 등 반도체 분야에 폭넓게 활용될 수 있을 것으로 기대한다"고 말했다.
이번 연구 결과는 나노분야 저널인 '나노 투데이'(Nano Today')에 지난 달 28일 온라인 게재됐다.
jchu2000@yna.co.kr
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