듀폰, 삼성전자 '혁신 부문 베스트 파트너' 선정

이나리 기자 2024. 10. 30. 08:38
자동요약 기사 제목과 주요 문장을 기반으로 자동요약한 결과입니다.
전체 맥락을 이해하기 위해서는 본문 보기를 권장합니다.

듀폰이 삼성전자가 개최한 제3회 'M-day (Material Day)'에서 '베스트 파트너 어워즈' 수상자로 선정됐다고 30일 밝혔다.

산제이 코타(Sanjay Kotah) 듀폰 전자 및 산업 부문의 CMP기술 글로벌 사업 리더는 "고객과의 지속적인 협력이 혁신의 원동력이 되며, 공정 요구 사항과 고객 피드백을 반영해 새로운 제품을 개발하고 최적화하고 있다"며 "CMP패드 혁신 부문 최우수 파트너 선정은 삼성전자와의 긴밀한 협력을 바탕으로 한 기술적 성과를 보여준다"고 말했다.

음성재생 설정
번역beta Translated by kaka i
글자크기 설정 파란원을 좌우로 움직이시면 글자크기가 변경 됩니다.

이 글자크기로 변경됩니다.

(예시) 가장 빠른 뉴스가 있고 다양한 정보, 쌍방향 소통이 숨쉬는 다음뉴스를 만나보세요. 다음뉴스는 국내외 주요이슈와 실시간 속보, 문화생활 및 다양한 분야의 뉴스를 입체적으로 전달하고 있습니다.

첨단 반도체 제조 위한 '연마 패드 개발' 공로 인정받아

(지디넷코리아=이나리 기자)듀폰이 삼성전자가 개최한 제3회 ‘M-day (Material Day)’에서 ‘베스트 파트너 어워즈’ 수상자로 선정됐다고 30일 밝혔다. 

삼성전자 소재기술그룹이 주관한 M-day는 반도체 소재 공급업체 및 기타 협력사들이 모여 소재와 기술의 최신 동향을 논의하고, 한 해 동안의 우수한 성과를 기념하는 행사다.

듀폰이 지난 10월 8일(화) 삼성전자 인재개발원에서 열린 ‘제 3회 M-day’ 행사에서 ‘혁신부문 베스트 파트너 어워즈’를 수상했다. (왼쪽부터 삼성전자 최삼종 상무 (소재기술팀 팀장), 듀폰 전자 & 산업 그룹 이상준, 듀폰 전자 & 산업 그룹 조정직 듀폰 전자 &산업 그룹 김동우, 삼성전자 안봉수 소재기술파트 리더, 삼성전자 김한국 소재기술혁신파트 리더) (사진=듀폰)

듀폰은 첨단 반도체 제조를 위한 연마 패드 개발에 대한 공로를 인정받아 상을 받았다.듀폰은 반도체 기판 평탄화 공정에 사용되는 CMP (Chemical Mechanical Planarization, 화학기계적연마) 기술을 선도하는 기업으로, 폴리싱 패드, 슬러리, 고급 세정 솔루션을 공급하고 있다. 특히 듀폰의 대표적인 CMP패드 브랜드 중 하나인 아이코닉(Ikonic) 패드는 첨단 기술 노드에서 반도체 웨이퍼를 효과적이고 일관되게 연마할 수 있도록 설계돼, 인공지능(AI), 5G, 데이터센터 등 첨단 반도체 공정에 사용되고 있다.

산제이 코타(Sanjay Kotah) 듀폰 전자 및 산업 부문의 CMP기술 글로벌 사업 리더는 "고객과의 지속적인 협력이 혁신의 원동력이 되며, 공정 요구 사항과 고객 피드백을 반영해 새로운 제품을 개발하고 최적화하고 있다"며 "CMP패드 혁신 부문 최우수 파트너 선정은 삼성전자와의 긴밀한 협력을 바탕으로 한 기술적 성과를 보여준다"고 말했다.

한편, 듀폰은 지난해 M-day 행사에서 반도체 소재 개발을 위한 협력으로 지속 가능한 공급망 구축에 기여한 공로를 인정받아 환경, 사회 및 거버넌스 (ESG) 부문에서 베스트 파트너로 선정된 바 있다.

이나리 기자(narilee@zdnet.co.kr)

Copyright © 지디넷코리아. 무단전재 및 재배포 금지.

이 기사에 대해 어떻게 생각하시나요?