도쿄일렉트론코리아, 화성에 3번째 R&D센터 준공
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한국에서의 세 번째 R&D 센터인 이곳은 연면적 약 3만9200㎡ 규모로 반도체 제조에 필요한 첨단 기술을 연구개발한다.
특히 맞춤형 연구개발이 필요한 부분에서 고객의 웨이퍼를 가져와 가공하고 공정 기술을 개발하는 역할을 담당한다.
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도쿄일렉트론(TEL)코리아는 경기 화성시에 반도체 제조 공정의 주요 기술 연구개발(R&D) 센터인 ‘TEL 테크놀로지 센터 코리아-2′를 준공하고 가동에 돌입한다고 17일 밝혔다.
한국에서의 세 번째 R&D 센터인 이곳은 연면적 약 3만9200㎡ 규모로 반도체 제조에 필요한 첨단 기술을 연구개발한다. 특히 맞춤형 연구개발이 필요한 부분에서 고객의 웨이퍼를 가져와 가공하고 공정 기술을 개발하는 역할을 담당한다.
TEL은 일본 내 주요 개발 거점을 중심으로 고객 요구에 즉각 대응하기 위해 세계적으로 연구개발 거점을 전개하고 있다. 고객과 정보 공유 및 피드백 활성화를 통해 고객사 공정 개발 기간 단축 및 개발 평가 설비의 조기 양산 안정화에 나선다는 목표다.
원제형 도쿄일렉트론코리아 대표이사는 “아무리 좋은 장치를 만들어도 고객 생산 프로세스에 맞지 않으면 의미가 없다”며 “고객과의 근접 거리에서 요구와 설비의 기능을 합치시켜 신속하고 우수한 기술 개발 및 서비스 지원으로 반도체 산업의 기반 기술을 강화하겠다”고 했다.
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