코비스테크놀로지, 100억 투자 유치…“계측 검사 포트폴리오 다각화”

코비스테크놀로지의 마이크로 게이트옥사이드인터그리티(GIO) 장비

반도체 계측·검사 장비 기업 코비스테크놀로지가 100억원을 투자 유치하고, 차세대 질량 및 전기적 특성 검사 솔루션 상용화에 나선다.

코비스테크놀로지는 최근 100억원 규모 시리즈 B 투자를 유치했다고 밝혔다. 지난해 50억원 규모 시리즈 A에 이어 1년만에 달성한 성과다. 반도체 전문 투자사인 아주IB, 뮤렉스파트너스, MW&컴퍼니, 오엔벤처투자가 주요 투자사로 참여했다.

코비스테크놀로지는 반도체 제조 공정 가운데 웨이퍼 비시각결함(NVD) 검사 장비인 극미세 질량 측정 장비를 국산화했다. 공정 전후 웨이퍼 질량 차이를 계측해 이상 유무를 검사하는 장비로, 2022년 SK하이닉스 양산 라인에 공급했다. 올 하반기에는 기존 대비 50% 측정 성능과 속도를 개선한 차세대 극미세 질량 장비(OptiMax)를 국내 주요 D램 제조 및 반도체 위탁생산(파운드리) 업체에 공급할 예정이다.

이같은 기술력을 인정받은 코비스테크놀로지는 지난해 SK하이닉스 계측·검사 부문 기술 혁신기업으로 선정된 바 있다. SK하이닉스 상생협력 지원 프로그램을 통해 반도체 패턴 웨이퍼 국소 영역의 전기적 특성을 검사하는 '게이트옥사이드인터그리티(GIO)' 설비 개발에도 성공했다. 회사 관계자는 “외산 업체가 독점 공급해왔던 장비인 데, 경쟁사 대비 10배 이상 측정 정밀도를 높였다”고 밝혔다. 이 장비는 현재 고객사와 공급을 논의 중이다.

코비스테크놀로지는 이번 투자 유치로 연구개발(R&D)을 확대, 계측·검사 장비 포트폴리오를 다변화할 방침이다. 우선 전기적 특성 검사 장비를 고도화한다. 웨이퍼 박막 신뢰성을 확보할 국소부위 면저항(RS) 측정을 위한 '마이크로 4 포인트 프루브' 설비를 올 하반기 출시할 예정이다. 고대역폭메모리(HBM) 공정에서 여러 단층을 쌓을 때 발생할 수 있는 NVD 검사 장비인 'C-SAM' 장비도 선보일 계획이다.

임은재 코비스테크놀로지 대표는 “이번 투자 유치는 SK하이닉스와 삼성전자 등의 적극적 상생 협력 프로그램과 국산화 열의에 크게 힘 입었다”며 “대부분 수입에 의존하는 국내 반도체 계측·검사 시장 한계를 극복하기 위해 기술 개발에 더욱 매진하고 글로벌 리더십을 확보하겠다”고 말했다.

권동준 기자 djkwon@etnews.com