中 노광장비 개발사 “ASML 독점 깰 특허 출원”
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중국 유일의 노광장비 개발사인 국영 상하이마이크로일렉트로닉스(SMEE)가 네덜란드 ASML의 독점을 깰 특허를 출원했다고 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)가 13일 보도했다.
SCMP는 "새롭게 드러난 SMEE의 노광장비 특허 출원은 미국 제재에도 중국 기업들이 자국 첨단 노광장비 시장에서 어떻게 발전할 수 있는지를 보여준다"며 "중국에서 극자외선 노광장비를 생산하는 것은 ASML의 독점을 깨는 것"이라고 의미를 부여했다.
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중국 유일의 노광장비 개발사인 국영 상하이마이크로일렉트로닉스(SMEE)가 네덜란드 ASML의 독점을 깰 특허를 출원했다고 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)가 13일 보도했다.
이런 상황에서 SMEE는 2022년 12월 미국 정부 블랙리스트에 올라 특정 미국 기술에 대한 접근이 막혔다. SCMP는 “새롭게 드러난 SMEE의 노광장비 특허 출원은 미국 제재에도 중국 기업들이 자국 첨단 노광장비 시장에서 어떻게 발전할 수 있는지를 보여준다”며 “중국에서 극자외선 노광장비를 생산하는 것은 ASML의 독점을 깨는 것”이라고 의미를 부여했다. 미국이 중국 반도체 굴기를 저지하기 위해 각종 수출 규제를 단행하면서 중국 반도체 산업은 직격탄을 맞았지만 이런 규제가 오히려 중국이 자체 기술 개발에 매진하도록 이끌었다는 지적이 나오고 있다.
앞서 지난 4월 SCMP는 소식통을 인용해 중국 나우라테크놀로지가 ASML의 최첨단 극자외선 노광장비 없이 5㎚ 반도체를 생산하는 기술에 진전을 이뤘다고 보도한 바 있다.
베이징=이우중 특파원 lol@segye.com
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