“중국 노광장비 개발사 SMEE, ASML 독점 깰 특허 출원”

중국의 유일한 노광장비 개발사인 국영 상하이마이크로일렉트로닉스(SMEE)가 네덜란드 ASML의 독점을 깰 특허를 출원했다고 홍콩 사우스차이나모닝포스트가 오늘(13일) 보도했습니다.

사우스차이나모닝포스트는 중국 기업정보 사이트 치차차를 인용해, SMEE가 지난해 3월 출원한 ‘극자외선(EUV) 방사선 발생기 및 노광장비’ 특허가 지난 10일 공개됐으며 여전히 중국국가지식재산권국의 심사를 받고 있다고 전했습니다.

노광장비는 반도체 기판인 실리콘 웨이퍼에 복잡한 회로 패턴을 새겨넣는 장비입니다.

현재 세계 극자외선 노광장비 시장을 거의 독점하고 있는 ASML은 2019년부터는 중국 수출에 제한을 받고 있으며, SMEE는 2022년 12월 미국 정부 블랙리스트에 올라 특정 미국 기술에 대한 접근이 차단됐습니다.

사우스차이나모닝포스트는 “SMEE의 노광장비 특허 출원은 미국 제재에도 불구하고 중국 기업들이 자국 첨단 노광장비 시장에서 어떻게 발전할 수 있는지를 보여준다”며 “중국에서 극자외선 노광장비를 생산하는 것은 ASML의 독점을 깨는 것”이라고 지적했습니다.

미국이 중국 반도체 굴기를 저지하기 위해 각종 수출 규제를 단행하면서 중국 반도체 산업은 직격탄을 맞았지만, 이런 규제가 오히려 중국이 자체 기술 개발에 매진하도록 만들었다는 지적도 나옵니다.

앞서 지난 4월 사우스차이나모닝포스트는 소식통을 인용해 중국 나우라테크놀로지가 ASML의 최첨단 극자외선 노광장비 없이 5나노 반도체를 생산하는 기술에 진전을 이뤘다고 보도한 바 있습니다.

[사진 출처 : 로이터=연합뉴스]

■ 제보하기
▷ 전화 : 02-781-1234, 4444
▷ 이메일 : kbs1234@kbs.co.kr
▷ 카카오톡 : 'KBS제보' 검색, 채널 추가
▷ 카카오 '마이뷰', 유튜브에서 KBS뉴스를 구독해주세요!

박석호 기자 (parkseokho@kbs.co.kr)