신에츠 화학, 300mm GaN용 QST™ 기판 개발

2024. 9. 6. 13:37
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도쿄 -- 비즈니스와이어 -- 신에츠 화학(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)(도쿄: 4063)(본사: 도쿄, 사장: 사이토 야스히코(Yasuhiko Saitoh), 이하 '신에츠 화학')이 GaN 에피택셜 성장(epitaxial growth) 전용 기판인 300mm(12인치) QST™ 기판을 개발하여 최근 샘플 공급을 시작했다.

신에츠 화학은 150mm(6인치) 및 200mm(8인치) QST™ 기판과 각 직경의 QST™ 에피택셜 기판 위의 GaN을 판매해 왔다.

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도쿄 -- 비즈니스와이어 -- 신에츠 화학(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)(도쿄: 4063)(본사: 도쿄, 사장: 사이토 야스히코(Yasuhiko Saitoh), 이하 ‘신에츠 화학’)이 GaN 에피택셜 성장(epitaxial growth) 전용 기판인 300mm(12인치) QST™ 기판을 개발하여 최근 샘플 공급을 시작했다.

신에츠 화학은 150mm(6인치) 및 200mm(8인치) QST™ 기판과 각 직경의 QST™ 에피택셜 기판 위의 GaN을 판매해 왔다. 한편 회사는 강력한 고객 수요에 부응해 직경을 추가로 늘리기 위해 노력했고, 300mm(12인치) QST™ 기판을 개발하는 데 성공했다. GaN 소자 제조업체들은 GaN에 기존 Si 생산 라인을 사용할 수 있다는 사실에도 불구하고, GaN 성장에 적합한 대구경 기판(large-diameter substrate)이 부족하기 때문에 소재의 직경을 늘려도 이점을 누릴 수 없는 실정이다. 하지만 이 300mm QST™ 기판에서는 뒤틀림이나 균열 없이 GaN 에피택셜 성장이 가능하며, 이는 Si 기판에서는 불가능했었기 때문에 소자 비용이 크게 절감된다. 신에츠 화학은 이미 진행 중인 150mm 및 200mm QST™ 기판을 위한 설비를 개선하는 외에도 300mm QST™ 기판의 양산에 착수할 예정이다.

QST™ 기판은 GaN과 열팽창 계수가 동일하기 때문에 SEMI 표준 두께의 QST™ 기판에서 GaN 에피택셜 레이어의 뒤틀림과 균열을 제한하는 것이 가능하다. 이 기판 소재를 사용하면 큰 직경에서 고품질의 두꺼운 GaN 에피택셜 성장이 가능해진다. 이 특성을 활용하여 많은 고객이 QST™ 기판과 QST™ 에피택셜 기판 위의 GaN을 전력 소자, 고주파 소자 및 LED에 사용할 수 있을지 평가하고 있다. 곤란한 비즈니스 환경에도 불구하고 최근 데이터 센터용 전원 공급 장치를 포함한 전력 소자에 대한 관심이 높아짐에 따라 고객들은 실용화를 향한 개발 단계에 진입했다.

150mm 및 200mm 라인업에 300mm QST™ 기판을 추가하면 GaN 소자의 보급을 크게 가속화할 수 있다. 신에츠 화학은 GaN 소자의 사회적 구현을 통해 에너지를 효율적으로 사용할 수 있는 지속 가능한 사회 실현에 기여하기 위해 노력하고 있다.

회사는 2024년 9월 4일부터 6일까지 대만 타이베이에서 열리는 세미콘 타이완(SEMICON TAIWAN)에서 이 300mm QST™ 기판을 전시할 계획이다.

*1: QST™ 기판은 큐로미스(Qromis)(미국 캘리포니아주, 최고경영자: 셈 바세리(Cem Basceri))가 개발한 GaN 성장 전용 복합 소재이며, 2019년에 신에츠 화학이 라이선스를 받았다. QST™은 Qromis의 미국 상표이다(등록 번호 5277631).

이 보도자료는 해당 기업에서 원하는 언어로 작성한 원문을 한국어로 번역한 것이다. 그러므로 번역문의 정확한 사실 확인을 위해서는 원문 대조 절차를 거쳐야 한다. 처음 작성된 원문만이 공식적인 효력을 갖는 발표로 인정되며 모든 법적 책임은 원문에 한해 유효하다.

사진/멀티미디어 자료 : https://www.businesswire.com/news/home/54117806/en

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출처:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

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