인텔·日연구기관, 일본에 반도체 제조장비·소재 R&D 거점 설치

산업기술종합연구소, 日연구기관 첫 극자외선 노광장비 도입 계획

ASML의 EUV 장비 [로이터 연합뉴스 자료사진. 재판매 및 DB 금지]

(도쿄=연합뉴스) 박성진 특파원 = 미국 반도체 기업 인텔이 일본 국립 연구기관인 산업기술종합연구소와 함께 일본에 최첨단 반도체 제조 장비와 소재 연구개발(R&D) 거점을 설치할 계획이라고 니혼게이자이신문(닛케이)이 3일 보도했다.

보도에 따르면 인텔과 산업기술종합연구소는 수백억엔(약 수천억원)을 투자해 3∼5년 뒤 연구개발 거점을 설립하는 것을 목표로 삼고 있다.

산업기술종합연구소는 이 거점에 일본 연구기관으로는 처음으로 극자외선(EUV) 노광장비를 도입할 방침이다.

최첨단 반도체 양산에 필요한 EUV 노광장비는 네덜란드 반도체 장비 업체 ASML이 독점 생산하고 있다.

일본 대기업이 출자한 라피더스가 올해 12월 EUV 노광장비를 도입하지만 일본 연구기관은 이를 보유하고 있지 않다.

산업기술종합연구소가 연구개발 거점의 운영 주체가 되고, 인텔은 EUV 노광장비를 사용한 반도체 제조 노하우 등을 제공한다.

일본 기업들은 이용료를 내고 EUV 노광장비를 사용해 반도체 시험 제작 등을 한다.

신 거점은 미국 연구기관과 기술협력이나 인재 교류도 검토한다.

일본은 반도체 생산에서는 한국·대만에 밀려 뒤졌지만, 반도체 장비와 소재에 강점을 갖고 있다.

일본 반도체 소부장(소재·부품·장비) 기업인 레이저테크는 EUV 관련 검사 장비 분야에서 시장 점유율 100%를 기록하고 있으며 JSR은 반도체 핵심 소재인 포토레지스트(감광제) 제조에 앞서 있다.

인텔은 새 거점을 통해 일본의 반도체 소재 및 장비 업체와 협업을 강화한다.

닛케이는 "미중 대립으로 미국이 중국에 EUV 장비 수출을 규제하고 있으며 EUV에 관련된 장비나 소재도 심사 대상으로 해 해외에서 실시한 연구 성과나 데이터를 일본에 반입하기 위한 과정에 시간이 걸린다"면서 "일본 연구기관에 EUV 장비가 있으면 연구 성과 활용의 장벽이 낮아진다"고 분석했다.

인텔 이외에도 파운드리(반도체 위탁생산) 세계 1위 업체 대만 TSMC가 2022년 이바라키현 쓰쿠바시에 차세대 반도체 연구 개발 거점을 설립했으며 삼성전자도 2024년도(2024년 4월∼2025년 3월) 안에 요코하마시에 연구 거점을 만들 예정이다.

sungjinpark@yna.co.kr

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