한·일·중 3국 상표전문가회의 개최

28일 유저 심포지엄도 함께 열려... 29일 한·일, 한·중 양자회의

[아이뉴스24 강일 기자] 특허청은 일본, 중국 특허청과 함께 오는 28일 서울시 소재 한국프레스센터에서 ‘한·일·중 상표전문가회의’ 및 ‘유저 심포지엄’을 개최한다. 또 29일에 서울 소재 한국지식재산센터에서 한·일, 한·중 양자 간 상표전문가 회의를 개최한다.

‘한·일·중 상표전문가회의’는 실무자급 전문가들이 모여 각국의 상표 제도 및 이와 관련된 쟁점들을 논의하는 자리로, 지난 2019년부터 매년 국가별로 돌아가면서 개최하고 있다.

한·일·중 상표전문가회의·유저심포지엄 포스터 [사진=특허청]

이번 회의는 28일 10시부터 3국의 상표 출원·등록 및 심사처리 현황과 더불어 개정된 상표법 내용과 운영현황 등에 대한 정보를 공유하고 의견을 교환할 예정이다.

이어 개인 및 기업 출원인, 대리인을 위한 ‘유저 심포지엄’도 열린다. 3국 특허청 관계자가 각국의 심사처리 현황과 개정된 심사기준 등에 대해 발표하고, 참여자들과 질의응답을 진행한다.

이번 심포지엄은 상표분야에서 국제적인 관심사로 논의되고 있는 국제적으로 유명한 상표의 보호 제도 논의와 이에 대한 심판·소송 사례 등을 공유할 예정이다.

이어 29일 오전 10시 한·일, 한·중 양자 간 상표전문가 회의가 열린다. 양자회의에서는 상표심사에 대한 AI시스템 도입, 금년부터 우리나라와 일본에서 시행되고 있는 상표공존동의제*의 이용 현황 및 세부 지침, 최근 자국 내에서 이슈가 되었던 상표 쟁점들에 대해 논의할 예정이다.

/대전=강일 기자(ki0051@inews24.com)