가우스랩스, AI 기반 가상 계측 솔루션 ‘파놉테스 VM’ 2.0 출시

최지희 기자 2024. 8. 13. 16:47
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SK하이닉스의 산업용 인공지능(AI) 전문 자회사인 가우스랩스가 AI 기반 가상 계측 솔루션 '파놉테스 VM'(Panoptes Virtual Metrology)의 2.0 버전을 출시했다고 13일 밝혔다.

파놉테스 VM은 장비에 설치된 센서에서 수집한 데이터를 활용해 제조 공정 결과를 예측하는 가상 계측 AI 솔루션이다.

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SK하이닉스, 박막 증착 공정 이어 식각 공정에도 솔루션 도입
/SK하이닉스 제공

SK하이닉스의 산업용 인공지능(AI) 전문 자회사인 가우스랩스가 AI 기반 가상 계측 솔루션 ‘파놉테스 VM’(Panoptes Virtual Metrology)의 2.0 버전을 출시했다고 13일 밝혔다.

파놉테스 VM은 장비에 설치된 센서에서 수집한 데이터를 활용해 제조 공정 결과를 예측하는 가상 계측 AI 솔루션이다. 이 솔루션을 적용하면 물리적인 전수 계측 없이도 모든 제품의 공정 결과값을 예측할 수 있어 시간과 자원을 획기적으로 줄일 수 있다고 가우스랩스는 설명했다.

가우스랩스는 “이번에 출시한 파놉테스 VM 2.0은 신규 모델링 기능을 적용해 기존 버전 대비 예측 정확도와 사용성을 크게 개선했다”며 “산업용 AI 기술 혁신을 통해 산업 현장에서 공정 전반의 혁신을 주도하겠다”고 했다.

2020년 8월 출범한 가우스랩스는 ‘AI 기술을 통한 제조 공정 혁신’ 비전 하에 제조 데이터 인텔리전스(MDI)를 위한 AI 솔루션 개발에 몰두, 2022년 11월 파놉테스 VM 1.0을 출시했다.

SK하이닉스는 같은 해 12월부터 양산 팹(fab·반도체 생산공장)에 이를 도입, 박막 증착 공정에 적용했다. 파놉테스 VM으로 가상 계측한 결과값을 장비의 최적 공정 조건을 찾아주는 솔루션인 APC와 연동해 공정 산포(한 공정에서 생산된 제품의 품질 변동 크기)를 약 29% 개선했고, 수율 또한 향상되는 효과를 얻었다.

SK하이닉스는 성능이 개선된 2.0 버전을 식각 공정까지 확대 적용하기로 했다. 식각 공정은 웨이퍼에 액체 또는 기체의 부식액을 이용해 불필요한 부분을 선택적으로 제거해 반도체 회로 패턴을 만드는 과정으로, 이를 위해 가우스랩스는 이번 솔루션에 ‘멀티 스텝 모델링’ 기능을 추가했다. 이는 예측하고자 하는 공정과 앞서 진행된 공정의 데이터를 함께 활용해 모델링을 할 수 있는 기능으로, 이전 공정의 영향을 많이 받는 식각 공정에 이 기능을 활용하면 가상 계측의 정확도를 높일 수 있다.

가우스랩스 기술진은 유사 공정 데이터를 통합해 가상 계측에 활용, 데이터 부족 문제를 최소화한 ‘유사 공정 통합 모델링’ 기능과 데이터 특성에 따른 최적의 예측 알고리즘을 자동 선택하는 ‘알고리즘 자동 선정’ 기능도 추가해 가상 계측 품질과 사용자 편의를 동시에 개선했다고 설명했다.

김영한 가우스랩스 대표는 “지난 4년간의 노력이 가장 정밀한 제조 산업이라 불리는 반도체 분야에서 의미 있는 결과를 내는 만큼 여기서 얻은 산업용 AI 기술력을 바탕으로 글로벌 시장을 개척해 나가겠다”고 말했다.

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