오스 "반도체 공정 핵심은 집적도↑ '원자층 식각' 기술로 푼다"

[제13회 청년기업가대회]

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이응구 오스 대표가 27일 서울시 강남구 슈피겐홀에서 열린 제13회 청년기업가대회 결선에서 발표를 진행하고 있다. /사진=머니투데이

"반도체는 더 이상 작게 만들 수 없는 물리적 한계에 봉착했다. 지금은 집적도를 높이는 것이 과제다. 기존에는 수직 방향 공정으로 해결할 수 있었지만 이제는 층과 층 사이의 공간에 대한 측면 방향의 공정이 필요해졌다."

이응구 오스 대표는 27일 서울시 강남구 슈피겐홀에서 열린 제13회 청년기업가대회 결선에서 "우리는 반응성 이온 식각(RIE) 방식이 아닌 원자층 식각(ALE) 공정 기술을 개발해 기존 대비 공정 시간을 6배 단축할 수 있다"며 이같이 말했다.

2020년 설립된 오스는 대학이나 연구소 등 실험실 단계에서 개발하는 반도체를 실증할 수 있는 장비를 만든다. 반도체 제조의 8대 공정 중 '식각'과 '증착'에 사용되는 장비다.

이응구 대표는 "많은 회사들이 도전하고 있지만 아직 양산 수준의 기술을 보유하고 있는 곳은 없다"며 "우리는 플라즈마 기술, 고속 열원 기술, 빠르게 가스를 공급하고 뺄 수 있는 제어 기술을 바탕으로 빠른 생산성을 갖는 공정 장비를 만들고 있다"고 강조했다.

오스의 식각·증착 장비는 반도체 연구개발(R&D)에만 국한되지 않는다. 디스플레이 제조장비, 플라즈마 코팅장비, 태양광 발전장치 제조장비 등에서도 활용된다. 전기나 빛 등 신호를 다른 에너지로 전환한다는 점에서 사실상 동일한 원리를 활용하고 있어서다.

오스는 현재 8인치급 원자층 공정 장비 제작 및 차세대 열원 기술의 검증 단계에 있다. 20억원 이상의 추가 투자를 유치한 뒤 새로운 기술들을 적용한 12인치급 장비 개발에 착수할 계획이다.

이 대표는 향후 사업화와 관련해 "삼성, TSMC 등과 직접 거래하는 것도 가능하다면 좋겠지만 그런 어려운 절차를 걷는 것보다는 이미 그 문제를 같이 풀고 있는 글로벌 반도체 장비 기업과의 협업을 통해 2차 벤더나 OEM 방식으로 시장 진입이 용이할 것으로 보고 있다"고 했다.

한편 13회 청년기업가대회는 한국기업가정신재단과 롯데장학재단, 패스파인더H·DS투자증권·에프앤가이드·사단법인 블루문드림·KB인베스트먼트·서울투자파트너스·씨엔티테크·엔슬파트너스·연구개발특구진흥재단·나눔엔젤스가 주최하고, 머니투데이 스타트업 미디어 플랫폼 유니콘팩토리·AC패스파인더가 주관하는 국내 최대 규모의 창업경진대회다.

올해 청년기업가대회에는 90여개가 넘는 많은 스타트업이 참가신청을 하면서 예선부터 경쟁이 치열했다. 이중 43개팀이 본선에 진출했고, 최종 결선에는 8개팀이 선정돼 5대 1이 넘는 경쟁률을 기록했다.

대회 심사위원으로 벤처투자업계의 심사역, 예비유니콘 대표, 복지재단 이사장 등 총 28인의 전문가들이 참여해 다양한 산업과 기술 분야를 심사했다.

결선에선 최종 우승 2개팀을 뽑는다. 우승팀은 한국기업가정신재단으로부터 최대 5000만원의 투자를 받는다. 우승 결과와 무관하게 패스파인더H와 AC패스파인더로부터 개별 선정된 스타트업은 각각 최대 15억원과 1억원의 투자를 받을 수 있다. 만약 대회 우승팀이 투자기관들에게도 선정된다면, 최대 16억5000만원의 투자를 받는다.

아울러 결선 진출팀에는 본선 상금 50만원에 더해 80만원의 상금이 추가 지급된다. 패스파인더H 등 총 11개 기관은 각각 기업을 선정해 100만~300만원의 특별상금도 제공한다. 특별상금은 중복 수상이 가능하다.

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최태범 기자 bum_t@mt.co.kr