켐트로스, 반도체 포토레지스트 공정용 소재 양산 시설 완공

/사진=켐트로스

국내 반도체 및 2차전지 소재 기업 켐트로스가 반도체 포토레지스트(PR) 공정용 고분자 생산 시설을 완공하고 본격적인 양산 준비에 돌입했다고 21일 밝혔다.

이번에 준공한 공장은 반도체 PR 공정에 적용되는 고분자 소재를 제조하기 위한 설비다. 수요처 요구에 따라 관련 단분자 소재들도 생산할 수 있다. 켐트로스는 지난해 1월 충북 진천 3공장 부지에 시설 공사를 시작해 약 18개월만인 전날 해당 시설에 대한 사용 허가를 받았다.

켐트로스는 KrF(불화크립톤)용 고분자, PAG(감광재) 등을 시작으로 먼저 양산화에 들어갈 예정이며 ArF용, EUV(극자외선)용 고분자 및 음이온 고분자 등 관련 소재들도 수요처의 일정에 맞추어 양산 가동에 들어간다는 계획이다.

켐트로스 측은 공장 완공으로 향후 늘어나는 PR 공정 업체의 고분자 수요를 효과적으로 대응할 수 있을 것이라고 내다봤다. 최근 반도체 경기 회복에 대한 긍정적인 지표가 나오면서 고분자 등 관련 소재의 수요도 본격적으로 늘어날 것이라고 전망했다.

켐트로스는 이번에 완공한 공장 운영과 향후 있을 증설 등에 대비하여 지난달 투자 운용사로부터 대규모 투자계약을 체결하고 사업 운용 자금을 준비하는 등 재무적으로도 사업을 본격 추진해 나갈 준비를 마친 상태라고 전했다.

켐트로스 관계자는 "이번 공장 완공을 계기로 PR용 고분자 소재 시장에서 본격적인 공급자의 역할을 시작하며 국내 소재 공급자 풀을 넓히겠다"라며 "향후 수입에 의존하는 각종 PR 관련 소재를 국산화하는 국내 기반 소재 기업의 역할을 해나가겠다"라고 밝혔다.

박수현 기자 literature1028@mt.co.kr