韓·日·中, 미래 지식재산 협력 강화…신기술 공동대응 등 추진

한국과 일본, 중국이 지식재산 분야 협력을 강화하기로 했다.

특허청은 최근 열린 제9차 한·일·중 정상회의에서 윤석열 대통령, 기시다 후미오 총리대신, 리창 국무원 총리 등 3국 정상이 '지식재산 협력 10년 비전'을 공동선언 부속 문서로 채택했다고 28일 밝혔다.

이번 10년 비전에는 인공지능(AI), 사물인터넷(IoT) 등 신기술의 발전을 촉진하고 포용할 수 있는 지식재산 시스템 구축과 대학, 연구기관, 기업 등 민간 연구개발(R&D)을 효과적으로 지원하고 장려하기 위한 특허데이터 주기적 교환·대민접근성 제고 등이 담겼다.

또 3국 간 협력 성과를 다른 국가 또는 아세안 등 지역 기구와 공유하기 위한 '3국+X(Trilateral+X)' 추진 등 3대 미래협력방향도 포함돼 있다.

한·일·중은 지식재산분야 강국으로 3국 특허출원이 세계 약 62%(2022년)를 차지하고 있으며, 지식재산분야 협력은 3국의 견고한 협력관계를 상징하는 대표적 모델로 자리매김해 왔다.

특히 3국 특허청장 회의가 2001년에 정례화한 이후, 코로나19 확산 등 어려운 상황 속에서도 지난해 대한민국이 주최한 제23차 청장회의까지 매년 열렸고 상표·디자인 분야 심사, 심판, 지식재산교육 등 분야별 실무회의체를 통해 다양한 협력 사업을 추진 중이다.

이밖에 발명가, 기업 등 지식재산 서비스 사용자들과의 긴밀한 소통을 위해 2013년부터 3국 특허청장회의의 부대행사로 유저 심포지엄도 열리고 있다.

정상회의를 계기로, 한·일·중 3국은 '지식재산 협력 10년 비전'의 3대 협력 목표 추진을 위해 긴밀히 협력해 나갈 것으로 기대된다.

김시형 특허청장 직무대리는 “4년 5개월 만에 한국에서 개최된 한·일·중 정상회의에서 지식재산 분야 미래협력방향이 채택된 것은 3국 혁신기반 경제발전에 큰 의미가 있다”며 “구체적인 결실이 맺어질 수 있도록 일본 및 중국특허청과 긴밀히 협력해 나가겠다”고 말했다.

양승민 기자 sm104y@etnews.com