투자 힘 받는 삼성, 선단공정·R&D로 반도체 1위 탈환 정조준
“최선단 시설과 R&D는 국내 둬야…기술 유출시 경쟁력 상실”
”수주·양산 근본은 기술”…삼성, 공격투자로 ‘초격차 기술’ 시동
[이데일리 김응열 기자] 삼성전자(005930)가 미국에서 9조원에 가까운 반도체 직접 보조금을 받게 되면서 미국뿐 아니라 국내 투자에도 속도가 붙을 전망이다. 삼성전자는 경기 평택과 용인에 각각 수백조원에 달하는 대규모 시설투자를 진행 중이다. 미국 현지에 2나노미터(nm) 제품을 양산하며 파운드리(반도체 위탁생산) 경쟁력을 키우는 동시에 최선단 공정과 연구개발(R&D) 시설을 국내에 집중해 기술 ‘초격차’를 지키고 글로벌 반도체 1위 지위를 탈환하겠다는 구상이다.
15일 업계에 따르면 삼성전자는 미국 반도체 보조금을 받은 뒤 국내 투자에도 전보다 힘을 실을 계획이다. 미국에서의 추가 투자 역시 진행하지만 보조금을 수령하면서 국내외 전체 투자에 대한 자금 확보에는 다소 숨통이 트였다.
삼성전자는 경기도 용인과 평택 등에 대규모 투자를 진행 중이다. 용인에는 300조원을 쏟아부어 710만㎡ 규모의 세계 최대 시스템반도체 클러스터를 조성한다. 2042년까지 300조원을 투자하는 대규모 프로젝트다. 이 클러스터에는 첨단 반도체 제조공장 5개를 구축하고 소재·부품·장비(소부장) 기업, 팹리스(반도체 설계) 기업 등 150곳을 유치한다.
평택에도 반도체 라인 6개를 구축하고 있다. 약 289만㎡ 크기로 조성 중인 삼성전자 평택캠퍼스는 현재 반도체 생산라인 P4까지 공사 중이다. P5는 본격적인 공사 전 터를 다지는 등 부지 정리 작업을 하고 있다. 평택 공장은 메모리와 파운드리 등 라인이 혼재한다. 삼성전자는 정확한 투자 금액을 공개하지 않고 있지만, 공장 하나에 약 30조원의 자금이 들어가는 점을 고려하면 평택에도 약 180조원을 쏟는 셈이다.
김양팽 산업연구원 전문연구원은 “자국에 공장을 지으려는 게 세계적인 트렌드이고 삼성전자 역시 한국 투자에 힘을 실을 계기가 됐다”고 진단했다.
“최선단공정·R&D는 국내에…기술 수호가 경쟁력”
삼성전자는 2나노 미만 최선단 공정과 R&D는 국내에 집중할 것으로 예상된다. 미국에서 첨단 칩을 생산하라는 현지 정부의 기조 등 영향으로 현재 짓고 있는 텍사스 테일러 공장은 2나노 제품도 생산할 예정이지만 그보다 선폭이 좁은 제품은 국내에서 만들 가능성이 크다. 자칫 기술이 유출될 경우 경쟁력을 잃을 수 있어서다.
업계 관계자는 “최선단 시설은 가장 안전한 국내에 조성하는 게 일반적”이라며 “미국은 첨단 칩을 자국에서 생산하라는 기조이지만 협의 여지는 있을 것”이라고 언급했다.
김양팽 전문연구원은 “외국에 최첨단 시설을 지었다가 기술이 유출되면 업계를 선도하는 우리 경쟁력이 사라지는 것”이라며 “기술수준을 나눠서 개발하고 향후 시설을 옮기는 등 우리 경쟁력을 지킬 방안을 찾아야 하고 미국과도 의견을 잘 조율해야 한다”고 강조했다.
아울러 삼성전자는 공격적 투자로 미국 메모리기업 마이크론과 중국업체 YMTC 등 추격자들을 따돌리고 파운드리 1위 대만 TSMC와의 격차를 좁히는 작업에도 집중할 전망이다.
김형준 차세대지능형반도체사업단장(서울대 명예교수)은 “삼성전자가 도약하기 위해선 국내에서 최신 기술을 잘 개발하고 핵심 고객사를 확보해 대량 양산에 성공해야 한다”며 “근본적 역량은 기술에 있다”고 말했다.
김응열 (keynews@edaily.co.kr)
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