[특징주] 지오엘리먼트, 삼성·SK '10나노 D램' 양산 기대감↑… EUV수혜주 부각
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지오엘리먼트의 주가가 강세다.
최근 삼성전자와 SK하이닉스 등이 차세대 반도체 생산을 위한 EUV(극자외선) 공정 적용을 늘리면서 관련 수혜주로 재부각되고 있기 때문이다.
관련 업계 등에 따르면 삼성전자와 SK하이닉스가 차세대 D램인 '6세대 10나노 D램'을 동시에 양산하며 올해 치열한 고객 확보 경쟁에 나설 전망이다.
삼성전자와 SK하이닉스의 주력 D램인 4세대·5세대 10나노급 D램은 4~5개의 레이어를 EUV로 작업한다.
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[파이낸셜뉴스] 지오엘리먼트의 주가가 강세다. 최근 삼성전자와 SK하이닉스 등이 차세대 반도체 생산을 위한 EUV(극자외선) 공정 적용을 늘리면서 관련 수혜주로 재부각되고 있기 때문이다.
11일 오후 2시 56분 현재 지오엘리먼트는 전일 대비 410원(+3.27%) 상승한 1만 2930원에 거래되고 있다.
관련 업계 등에 따르면 삼성전자와 SK하이닉스가 차세대 D램인 '6세대 10나노 D램'을 동시에 양산하며 올해 치열한 고객 확보 경쟁에 나설 전망이다. 양산 시기를 비롯해 제품의 전력 효율, 극자외선(EUV) 노광장비의 적용 범위 등이 관건이다
양산 시기에 이어 전력 효율도 6세대 10나노 D램 시장을 선점할 기준으로 꼽힌다. 양사의 제품은 당초 정해진 규격에 따라 제조되고 있어, 전력 소비를 줄일 수 있는 전력 효율성이 고객사들의 선택에 적지 않은 영향을 줄 것으로 보인다.
그런 만큼 EUV가 적용되는 레이어의 개수도 관건이 될 전망이다.
통상 EUV는 반도체 웨이퍼에 미세한 회로를 넣는 최첨단 장비로 이를 활용하면 반도체의 생산성과 전력 효율이 높아진다. D램은 통상 수십개의 레이어(층)을 쌓아 만든다.
삼성전자와 SK하이닉스의 주력 D램인 4세대·5세대 10나노급 D램은 4~5개의 레이어를 EUV로 작업한다. EUV 장비를 얼마나 많은 레이어에 활용하는 지가 성능 향상에 영향을 미칠 수 있는 셈이다
EUV 노광장비 출하량이 늘수록 ALD(Atomic Layer Deposition, 원자층 증착) 수요가 확대되는데, 지오엘리먼트는 ALD 증착 공정에 필수인 캐니스터(Canister)와 레벨 센서를 생산하고 있다.
지오엘리먼트는 지난 2021년 국내 기준으로 해당 캐니스터 제품군 내에서 95% 수준의 시장점유율을 보유하고 있다. 주요 고객사도 주성엔지니어링, 원익IPS 등 공정장비기업을 비롯해 삼성전자, SK하이닉스 등 종합반도체 기업부터 ASM 등 글로벌 반도체 공정장비 업체까지 다양하게 분포돼 있는 점이 부각되면서 기대 매수세가 몰린 것으로 보인다.
#EUV #지오엘리먼트
kakim@fnnews.com 김경아 기자
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