“반성문 썼다고 기술 유출 감형, 허탈”

[교묘해진 핵심기술 유출]
“최대 18년형 양형기준 강화됐지만
과거 대부분 집유… 실제 적용 의문”

“재판에서는 판사의 재량이 많이 반영된다. 상향된 양형 기준이 제대로 재판에 반영될 수 있는 분위기가 조성돼야 기술 유출 범죄를 예방할 수 있다.”

22일 만난 국가정보원 산업기밀보호센터 A 조사관이 한 말이다. 19일 대법원 양형위원회가 ‘지식재산·기술 침해범죄 양형 기준 수정안’을 의결해 국가핵심기술을 빼돌린 경우 최대 징역 18년형까지 선고하도록 권고하고 초범이라도 정상을 참작하지 않도록 했지만, 실제 재판에서 새로운 양형 기준이 제대로 적용될지를 우려한 것이다.

A 조사관은 “기술 유출을 한 피의자가 반성문을 써오거나, 규명 탄원서가 들어오면 감형을 해주는 경우가 많다”고 지적했다. 특히 기술유출범의 경우 교수나 임원 등 사회적 지위가 높은 경우가 많다 보니 “깨끗하고 학식 있는 사람들이 저질렀다는 이유로 착시 효과를 일으킨다”는 설명이다.

A 조사관은 “실형 선고가 드문 데다, 실형이 나오더라도 평균 선고형량은 1년 2개월에 그친다”라며 “기껏 조사를 해도 집행유예나 벌금형이 나오면 너무 허탈하다”고 말했다. 그는 “기술 유출 처벌이 제대로 안 된다는 인식이 팽배하지면 기술 유출 범죄는 계속 늘어날 수밖에 없다”고 말했다.

일각에서는 양형 기준이 상향된 만큼 감경 기준 또한 늘어난 점을 걱정하고 있다. 형을 줄여 주다 보면 ‘솜방망이 처벌’ 논란이 다시 나올 수 있기 때문이다. B 조사관은 “기술은 한번 유출되면 끝인데, 그동안엔 기술이 상용화되지 않았다는 이유로 형을 낮춰주기도 했다. 기술 피해액을 산정하는 방식도 미흡하다 보니 피해를 가볍게 보기도 했다”고 밝혔다. 그는 “보이지 않는 피해까지 종합적으로 고려해 형을 선고해 주길 바란다”고 강조했다.

변종국 기자 bjk@donga.com