‘18나노 D램 공정 기술도’ 중국에 넘어갔나…경찰, 추가 압수 자료 재판부에 제출

2014년 삼성전자가 개발한 20나노급 D램 반도체 공정 기술도를 중국 반도체 업체 ‘청두가오전’으로 유출한 혐의를 받는 삼성전자 전 연구원 A씨가 법원에서 나오고 있다. [사진 = SBS 뉴스 갈무리]

반도체 핵심 기술을 중국에 유출한 혐의로 조사받고 있는 삼성전자의 전 연구원의 구속 여부가 곧 결정될 예정인 가운데, 경찰이 연구원으로부터 또 다른 반도체 공정 설계 자료도 압수한 것으로 확인됐다.

16일 SBS 보도에 따르면, 경찰은 2014년 삼성전자가 개발한 20나노급 D램 반도체 공정 기술도를 중국 반도체 업체 ‘청두가오전’으로 유출한 혐의를 받는 삼성전자 전 연구원 A씨로부터 18나노급 D램 관련 공정 설계 자료 일부를 압수해 재판부에 제출했다.

삼성전자에서 개발한 코드명 ‘파스칼’로도 불리는 이 D램 기술은 20나노급 D램의 상위 기술이다. 경찰이 입수한 청두가오전의 20나노급 반도체 완제품에는 18나노급 생산 기술도 일부 포함돼 있는 것으로 전해졌다.

경찰은 또 A 씨로부터 16나노급 D램에 대한 개발 계획이 담긴 서류까지 확보해 함께 재판부에 제출했다.

A씨는 법정에서 이날 “자료를 유출한 게 아니라 기억에 의존해 기술도의 초안을 작성한 거”라며 “다른 엔지니어들도 함께 작성에 참여했다”고 주장했다.

그러나 검찰은 압수한 공정 설계 자료가 삼성전자 것과 똑같고, 수십 자리 영어와 암호들로 이뤄져 있는 만큼 기억에 의존했다는 해명은 믿을 수 없다고 반박했다.

법정에서는 이례적으로 검찰까지 나서 PPT로 피의자의 구속 필요성을 강조했다.

A씨에 대한 구속 여부는 이르면 이날 밤 결정될 예정이다. 그가 구속되면 이번 사건의 핵심 인물로 꼽히는 청두가오전 대표 최 모 씨에 대한 수사도 본격화할 것으로 전망된다.