경찰, 삼성전자 반도체 기술 중국으로 유출한 전직 연구원 구속 영장 신청
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서울경찰청 산업기술안보수사대는 반도체 기술을 중국 기업에 유출한 혐의로 전직 삼성전자 연구원인 50대 남성에 대해 구속 영장을 신청했습니다.
이 남성은 지난 2014년 삼성전자가 독자 개발한 20나노급 D램 기술과 관련해, 반도체 제작 과정 700여 개가 담긴 기술 공정도를 유출한 혐의를 받고 있습니다.
해당 남성은 삼성전자 임원과 하이닉스 부사장을 지냈던 60대 남성이 중국 청두시로부터 투자를 받아 세운 회사의 임원으로 일하고 있는 것으로 파악됐습니다.
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서울경찰청 산업기술안보수사대는 반도체 기술을 중국 기업에 유출한 혐의로 전직 삼성전자 연구원인 50대 남성에 대해 구속 영장을 신청했습니다.
이 남성은 지난 2014년 삼성전자가 독자 개발한 20나노급 D램 기술과 관련해, 반도체 제작 과정 700여 개가 담긴 기술 공정도를 유출한 혐의를 받고 있습니다.
지난해 이 남성의 집을 압수수색한 경찰은, 집 안에서 해당 공정도를 발견한 것으로 전해졌습니다.
해당 남성은 삼성전자 임원과 하이닉스 부사장을 지냈던 60대 남성이 중국 청두시로부터 투자를 받아 세운 회사의 임원으로 일하고 있는 것으로 파악됐습니다.
이 남성의 구속영장 실질심사는 내일 서울중앙지법에서 열릴 예정입니다.
송정훈 기자(junghun@mbc.co.kr)
기사 원문 - https://imnews.imbc.com/news/2024/society/article/6562738_36438.html
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