반도체 세정기술 중국에 빼돌린 연구원 항소심에서 형량 늘어

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반도체 세정 장비 기술을 중국으로 빼돌린 혐의로 재판을 받은 반도체 장비업체 전 연구원이 항소심에서 형량이 늘어났습니다.

수원고법 형사2-3부는 지난 2018년부터 4년간 세메스의 영업비밀을 부정 사용해 장비 24대의 설계 도면을 만든 뒤, 710억 원 상당의 장비 14대를 제작해 중국 경쟁업체 등에 수출한 세메스 전 연구원에게 원심판결을 깨고 징역 5년을 선고했습니다.

재판부는 "유출된 기술은 세메스가 다년간 연구하고 개발해 얻어낸 성과이며 일부는 국가핵심기술"이라며 "이런 범죄를 가볍게 처벌한다면 기업들로서는 오랜 기간 기술 개발에 매진할 동기를 잃게 된다"며 양형 이유를 설명했습니다.

이 연구원은 반도체 장비 업체 세메스가 세계 최초 개발한 '초임계 반도체 세정 장비' 핵심 도면을 브로커를 통해 중국에 유출한 혐의로도 재판을 받았는데, 이에 대해서 법원은 원심과 같이 징역 5년에 벌금 5억 원을 선고했습니다.

이 연구원은 이 2개의 판결로 10년간 복역하게 됐습니다.

이재욱 기자(abc@mbc.co.kr)

기사 원문 - https://imnews.imbc.com/news/2024/society/article/6560878_36438.html

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