반도체 기술 중국에 유출한 연구원…2심 형량 더 높였다

항소심서 징역 5년·벌금 15억원 형량 늘어
초임계 반도체 세정 장비 유출도 기소

수원고등법원 수원지방법원. <사진=연합뉴스>

습식 반도체 세정 장비 기술을 중국으로 유출한 혐의를 받는 세메스 전 연구원이 항소심에서 징역 5년, 벌금 15억원으로 형량이 더 늘었다. '초임계 반도체 세정 장비' 제조 기술을 중국에 유출한 혐의도 재판에 별건으로 넘겨지면서 총 10년간 복역하게 됐다.

수원고법 형사2-3부(이상호 왕정옥 김관용 고법판사)는 9일 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률과 부정경쟁 방지 및 영업 비밀 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 징역 4년을 선고받은 세메스 전 연구원 A씨의 원심판결을 파기했다. 2심 재판부는 징역 5년을 선고했다.

A씨가 세메스에서 퇴직한 후 2019년 설립한 반도체 장비제조업체 법인에 대해서도 원심이 판결한 벌금 10억원을 파기하고 벌금 15억원을 내야 한다고 선고했다.

재판부는 이날 범행에 가담한 세메스 협력사 직원 등 6명에게 징역 2∼4년을 각각 선고했다. 이들 중 가담 정도가 경미한 세메스 전 직원 1명에게는 3년간 형을 집행유예했다.

원심에서 각각 징역 2년 6개월 등을 선고받은 일부 피고인은 항소심에서 형량이 가중됐다.

2심 재판부는 "피고인들이 유출한 반도체 세정 장비 기술은 피해 회사가 다년간 연구하고 개발해 얻어낸 성과로 일부는 국가핵심기술"이라며 "이런 범죄를 가볍게 처벌한다면 기업들로서는 오랜 기간 기술 개발에 매진할 동기를 잃게 된다"고 말했다. 이어 "피고인들은 이해할 수 없는 주장을 하며 범행을 부인하고 반성하는 모습을 보이지 않고 있다"고 했다.

앞서 A씨 등은 2018년 3월부터 2021년 12월까지 3년여 동안 세메스의 영업비밀인 반도체 습식 세정 장비 제작 기술 등을 부정 사용해 장비 24대의 설계 도면을 만들었다. 이후 이를 이용해 710억원 상당의 장비 14대를 제작해 중국 경쟁업체 또는 중국 반도체 연구소에 수출한 혐의로 재판에 넘겨졌다.

이들은 세메스 협력업체에 부탁하거나 세메스에서 퇴직할 때 관련 정보를 반납하지 않는 방식으로 세정 장비 기술 정보와 설계도면 등을 부정한 방법으로 취득했다. 반도체 세정 장비는 반도체 기판에 패턴을 조각하는 과정에서 발생하는 오염물질을 제거하는 장비다.

또한 국가 핵심 기술인 '초임계 반도체 세정 장비' 제조 기술을 중국에 유출한 혐의로 별건 기소됐다. A씨는 1심에서 징역 4년을 선고받았다. 해당 사건에 대한 항소심에서도 이날 같은 형을 선고받았다.

수원고법 형사2-2부(김관용 이상호 왕정옥 고법판사)는 부정경쟁방지법 위반 등 혐의를 받는 A씨에게 원심과 마찬가지로 징역 5년에 벌금 5억원을 선고했다.

A씨는 2021년 6월 세메스가 세계 최초로 개발한 '초임계 반도체 세정 장비' 핵심 도면을 세메스 협력사 대표로부터 취득해 이를 브로커를 통해 중국에 유출한 혐의를 받고 있다.

초임계 세정 장비는 초임계(액체와 기체를 구분할 수 없는 상태) 이산화탄소로 반도체 기판을 세정하는 설비다. 이 기술은 기판 손상을 최소화하는 차세대 기술로, 산업통상자원부가 지정한 국가핵심기술이다.

항소심 재판부는 이날 A씨와 함께 재판에 넘겨져 1심에서 징역 2∼4년을 각각 선고받은 기술 유출 브로커와 세메스 협력사 대표 등의 항소를 기각했다.

임성원기자 sone@dt.co.kr