홍콩 매체 “중국 SMEE 28나노 노광장비 개발사실 공표…관련보도는 검열돼”

미국의 제재 대상인 중국 국영 반도체 회사 상하이마이크로일렉트로닉스(SMEE)가 28나노 노광장비를 개발한 사실이 공식 발표됐다고 홍콩 사우스차이나모닝포스트가 오늘(31일) 보도했습니다.

SMEE의 후원사인 상하이장장그룹은 지난주 중국 소셜미디어 위챗 계정을 통해 SMEE가 중국 첫 28나노 노광장비를 개발했다고 밝혔습니다.

이는 SMEE의 28나노 노광장비 개발에 대한 첫 공식 확인이지만, 이에 대한 중국 매체들의 보도는 검열됐다고 사우스차이나모닝포스트는 전했습니다.

앞서 지난 7월 말 중국 증권일보는 SMEE가 연말까지 자체 개발한 28나노 노광장비 SSA/800-10을 인도할 것으로 전망된다고 보도한 바 있습니다.

노광장비는 극자외선 등을 이용해 반도체 원재료인 웨이퍼에 미세한 회로를 새겨넣는 장비로, 최첨단 반도체를 생산할 수 있는 노광장비는 네덜란드 ASML이 독점 제작하고 있습니다.

SMEE가 개발한 노광장비는 ASML의 최첨단 노광장비에 비해 한참 뒤처져있지만, 중국이 범용 반도체 공정에 집중하고 있는 만큼 28나노 노광장비의 개발은 중요한 성취라고 사우스차이나모닝포스트는 진단했습니다.

[사진 출처 : 로이터=연합뉴스]

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박석호 기자 (parkseokho@kbs.co.kr)