이재용 "반도체 시장 판도에 큰 변화"

ASML 클린룸 시찰 후 강한 확신

윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문 당시 동행한 이재용 삼성전자 회장이 2나노미터(2nm) 공정에 투입될 ASML의 노광장비를 살펴 본 뒤 "반도체 산업에 변화를 줄 수 있겠다"고 말한 것으로 전해졌다.

17일 산업계와 정부 관계자 등에 따르면 이 회장은 '게임 체인저'로 불리는 2나노 이하 최첨단 반도체 생산에 투입될 ASML의 차세대 극자외선(EUV) 장비 생산시설 '클린룸'을 윤 대통령과 함께 시찰한 뒤 이같은 소감을 전했다.

이 회장의 ASML 본사 방문은 10번째로, 그동안 ASML의 노광장비를 많이 시찰했었다. 그러나 이 회장은 이번에 윤 대통령과 함께 ASML의 최신 장비를 살펴보면서 해당 장비를 통한 협력이 반도체 시장 판도에 큰 영향을 줄 수 있겠다는 확신을 가진 것으로 알려졌다.

세계적인 반도체 장비기업 ASML의 노광장비는 최첨단 파운드리(반도체 위탁생산) 공정인 초미세 2나노로 웨이퍼에 회로를 그릴 수 있다는 점에서 시장 선점의 핵심 요소로 꼽힌다.

윤 대통령이 네덜란드 국빈 방문을 계기로 반도체 장비 강국인 네덜란드와 '반도체 동맹'을 맺은 과정에서, 삼성전자와 ASML은 1조원을 공동투자해 경기 화성시 동탄에 반도체 제조기술 R&D 센터를 건립하는 협약을 체결했다.

2021년에 체결됐던 화성시·경기도와 ASML간 체결한 업무협약과는 별개로, ASML-삼성 간 1조원 규모 R&D 센터 건립은 차세대 EUV를 기반으로 한 첨단 반도체 제조공정 공동개발 프로젝트다.

경계현 삼성전자 사장은 이번 MOU 체결에 대해 삼성전자와 ASML 엔지니어들이 공동 연구소에서 차세대 EUV 장비인 '하이 뉴메리컬어퍼처(NA) EUV' 장비 기술을 공동 개발하게 되는 것에 의미를 부여했다. 삼성전자가 하이 NA EUV의 기술적 우선권을 확보한 것으로, 장기적으로 D램이나 로직 반도체 공정 등에서 하이 NA EUV를 적기에 사용할 계기가 됐다는 설명이다.