경계현 삼성전자 사장 “ASML과 협력, 극자외선 기술적 우선권 확보”

네덜란드와 하이 NA EUV 연구
이재용 “출장성과 90% 반도체”

반도체 선물 안고 귀국 네덜란드를 방문했던 이재용(오른쪽 두 번째) 삼성전자 회장과 경계현(〃 세 번째) 반도체(DS) 부문장(사장)이 15일 오전 김포공항을 통해 귀국하며 취재진의 질문에 답하고 있다. 연합뉴스

삼성전자가 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈 방문으로 성사된 ASML과의 공동 연구소 설립을 통해 ‘하이 NA EUV(극자외선)’에 대한 기술적 우선권을 보유하게 됐다.

네덜란드 국빈 방문을 수행한 이재용 삼성전자 회장은 15일 오전 김포공항을 통해 귀국하며 기자들과 만난 자리에서 “이번에는 반도체가 거의 90%였다”며 동행했던 경계현 삼성전자 반도체(DS) 부문장(사장)에게 자세한 설명을 부탁했다.

경 사장은 “이번에 ASML과의 협약은 경기 화성시 동탄에 공동 연구소를 설립하고 하이 NA EUV 장비를 들여와 ASML 엔지니어와 삼성전자의 엔지니어들이 함께 기술을 개발하기 위해 추진됐다”며 “이를 통해 삼성전자는 하이 NA EUV에 대한 기술적인 우선권을 갖게 될 것”이라고 말했다. 경 사장은 “장기적으로는 D램이나 로직에서 하이 NA EUV를 잘 쓸 수 있는 계기를 만들지 않았나 생각한다”며 “(반도체 생산을 위한) 여러 가지 툴이 있지만, EUV가 가장 중요한 툴 중 하나이기 때문에 전체적인 반도체 공급망 입장에서 든든한 우군을 확보했다”고 의미를 부여했다.

경 사장은 ‘경쟁사보다 EUV 장비를 우선 확보할 수 있냐’는 질문에는 “장비를 빨리 들여온다는 관점보다는 하이 NA EUV에 대해 ASML과 삼성전자 엔지니어가 공동으로 연구하며 삼성전자가 하이 NA EUV를 잘 쓸 수 있는 협력관계를 맺어가는 것이 더 중요하다”고 덧붙였다. 앞서, 삼성전자와 네덜란드 반도체 장비기업인 ASML은 7억 유로(약 1조 원)를 투자해 한국에 차세대 노광장비 개발을 위한 공동연구소를 설립하는 업무협약(MOU)을 체결했다. 2나노미터(㎚·1㎚=10억분의 1m) 이하 파운드리(수탁생산) 공정의 ‘게임체인저’로 불리는 ‘하이 NA EUV 노광 장비’는 대당 비용이 5000억 원에 육박하지만 주문이 밀려 있을 정도로 반도체 제조의 필수 장비로 꼽힌다.

임대환 기자 hwan91@munhwa.com