EUV 성과 올린 JY…“네덜란드 순방 90%는 반도체”

15일 오전 입국…피곤한 모습에도 밝은 표정
경계현 사장 “D램·로직서 EUV 역량 오를 것”

[이데일리 김응열 기자] 이재용 삼성전자 회장이 네덜란드 순방 성과에 관해 “반도체가 90%였다”며 만족감을 드러냈다.

15일 오전 윤석열 대통령의 네덜란드 국빈방문 동행을 마치고 귀국한 이 회장은 서울 강서구 서울김포비즈니스항공센터에서 취재진과 만나 미소를 띠며 이같이 말했다.

윤석열 대통령과 함께 네덜란드를 방문했던 이재용 삼성전자 회장이 15일 오전 서울김포비즈니스항공센터로 귀국하며 취재진의 질문을 받고 있다. (사진=연합뉴스)

이재용 삼성전자 회장과 경계현 삼성전자 DS부문장 사장이 15일 오전 서울김포비즈니스항공센터로 귀국하고 있다. (사진=연합뉴스)

이 회장은 피곤한 기색도 엿보였지만 취재진을 향해 “아침 일찍 나오셨다”며 인사를 건네는 등 밝은 표정을 유지했다. 네덜란드 동행이 만족스러웠던 것으로 풀이된다. 그러면서 이 회장은 구체적 성과에 관해서는 출장에 함께 한 경계현 삼성전자 DS부문장 사장이 답변하도록 지시했다.

경 사장은 “경기도 동탄에 ASML과 삼성전자가 공동연구소를 짓고 하이 NA(뉴메리컬어퍼처) EUV(극자외선)를 들여와 기술을 개발하는 게 주목적”이라며 “하이 NA EUV의 기술적 우선권을 삼성전자가 갖고 장기적으로는 D램과 로직(시스템반도체)에서 하이 NA EUV를 더 잘 쓸 수 있는 계기를 만든 것”이라고 자평했다.

이어 “EUV가 가장 중요한 툴 중 하나이고 전체적인 반도체 공급망에서 튼튼한 우군을 확보했다”며 “공동연구로 삼성전자와 ASML의 협력관계를 맺어가는 게 중요하다”고 강조했다.

경계현 삼성전자 DS부문장 사장이 15일 오전 서울김포비즈니스항공센터로 귀국한 뒤 취재진 질문에 답하고 있다. (사진=연합뉴스)

이에 앞서 지난 12일(현지시간) 삼성전자는 네덜란드 반도체 장비 기업 ASML과 EUV 공동연구소를 설립하기로 업무협약을(MOU)을 맺었다. 삼성전자와 ASML이 총 7억유로(약 1조원)를 투자해 국내에 연구소를 짓고 차세대 노광장비 개발을 추진한다. ASML 입장에서 반도체 제조기업과 함께 해외에 연구소를 짓는 건 처음이다.

삼성전자는 이번 MOU로 첨단 메모리 개발에 필요한 차세대 EUV 활용 공정 기술을 조기에 개발해 확보할 계획이다. 삼성전자와 ASML 기술진이 한 데 모여 실시간 소통·협력하는 만큼 EUV 장비로 반도체 검증·양산 테스트뿐 아니라 삼성전자가 원하는 사양을 차세대 EUV 장비에 반영할 가능성도 점쳐진다. 삼성전자는 EUV 장비 활용 노하우도 더 빠르게 축적할 수 있을 전망이다.

ASML은 반도체업계에서 ‘슈퍼 을(乙)’로 불린다. 초미세공정에선 EUV 장비가 필수인데 공급이 적다. ASML이 독점생산하고 생산가능 수량은 1년에 40~50대뿐이다. 삼성전자와 TSMC 등 많은 반도체기업들이 ASML에 연일 러브콜을 보내는 이유다.

EUV는 특히 파운드리(반도체 위탁생산)에서 활용이 두드러지는데 이번에 공동기술 개발에 나서는 하이 NA EUV는 2나노미터(nm· 1㎚는 10억분의 1m) 이하 초미세공정에 활용하기 좋다. 현재 삼성전자와 TSMC 등 파운드리업계는 3나노 경쟁을 진행 중이고 내후년부터는 2나노 경쟁이 본격화할 예정이다. 삼성전자는 기존 핀펫공정보다 개선된 GAA(게이트올어라운드) 공정을 3나노에 적용하며 TSMC보다 먼저 GAA 노하우를 쌓아왔는데 EUV 역량까지 끌어올리며 2나노 경쟁에서 유리한 고지를 점할 수 있을 전망이다.

김응열 (keynews@edaily.co.kr)