[과기원NOW] 포스텍, 반도체·초소형 전자소자 위한 리소그래피 마스크 개발 外

국제학술지 '어드밴스드 머티리얼즈 테크놀로지' 속표지로 실린 포스텍 연구팀의 논문. 포스텍 제공.

■ 포스텍은 김석 기계공학과 교수, 이상엽 통합과정생, 정대성 화학과 교수 연구팀이 평면과 곡면에 모두 사용할 수 있고 구조적 손상 없이 부착·분리가 가능한 ‘스텐실 리소그래피용 섀도 마스크’를 개발했다고 15일 밝혔다. 스텐실 리소그래피는 섀도 마스크라는 도안을 사용해 기판에 금속을 쌓아 패턴을 만드는 기술이다. 나노미터 규모의 소자나 회로를 만들 때 활용하는데, 골곡이 있는 표면에서 공정하려면 섀도 마스크가 곡면 형태에 적합하도록 유연하고 얇아야 한다. 연구팀은 아세톤을 사용해 실리콘 박막이 틀에서 자체적으로 분리되는 기술을 앞서 개발했는데, 이 기술을 이용해 평면과 곡면 모두 적용 가능한 얇은 실리콘 섀도 마스크를 만들었다. 섀도 마스크를 기판에 부착하기 위해 폴리디메틸실록산으로 건식 접착제도 만들었다. 이 접착제는 포스트잇처럼 부착·분리할 수 있어 기판에 손상을 입히지 않는다. 연구는 국제학술지 ‘어드밴스드 머티리얼즈 테크놀로지’ 속표지 논문으로 10일 게재됐다. 

■ 울산과학기술원(UNIST)은 15일 허민섭 물리학과 교수팀과 석희용 광주과학기술원(GIST) 교수팀, 야론스진스키 영국 스트라스클라이드대 교수팀이 공동 연구를 통해 기존보다 1000배 이상 강력한 레이저 펄스를 만들 수 있는 아이디어를 내고 컴퓨터 시뮬레이션으로 이를 증명했다고 밝혔다. 연구팀은 이온화된 상태인 플라즈마는 이미 손상된 물질이어서 아무리 강한 레이저를 넣어도 더 이상 손상되지 않는다는 점을 이용, 플라즈마를 회절 거울과 같은 방식으로 활용해 강한 레이저 펄스 압축을 실행했다. 이는 레이저 핵융합 연구에 적용해 에너지 문제를 해결하거나, 첨단 이론 물리학의 예측을 증명하는데 활용될 것으로 기대된다. 연구 결과는 국제학술지 ‘네이처 포토닉스’에 13일 온라인 게재됐다. 

[문세영 기자 moon09@donga.com]