日, 반도체 산업 예산 2조엔 추가 편성한다

일본이 반도체 투자에 따른 지원금을 늘리기 위해 추가 예산 편성을 추진하는 등 첨단 반도체 산업 강화를 적극적으로 추진하고 있다.

9일 닛케이아시아와 블룸버그 등 외신에 따르면 일본 정부는 반도체 및 생성형 AI(인공지능) 산업 발전을 위해 2조엔(약 17조원) 규모의 예산을 편성할 예정이다.

앞서 일본 경제산업성은 정부 추가경정예산안에 3조4000억엔 규모의 반도체 관련 기금 증액을 반영해달라고 요청한 바 있다. 이번 기금 규모는 이보다는 삭감됐지만, 지난해 추가경정예산에서 책정된 1조3000억엔보다는 높을 것으로 닛케이는 내다봤다.

추가 편성되는 예산은 일본에 현지 투자하는 기업들을 지원하는 데 활용된다. 특히 일본이 최근 첨단 반도체 설비에 대한 의욕을 구체적으로 드러내고 있다는 점이 주목할 만 하다. 대표적으로 글로벌 파운드리(반도체 위탁생산) 1위 기업인 대만 TSMC와의 협력 강화가 눈에 띈다.

TSMC는 지난해 일본 구마모토현에 첫 번째 반도체 공장 건설을 시작했다. 일본 정부는 이 공장에 약 4760억엔을 지원한 바 있다. 일본 정부는 이번 추가 예산에서 TSMC의 두 번째 공장을 위해 최대 9000억엔을 배정할 것으로 전망된다. 이렇듯 일본의 적극적인 지원 하에 TSMC는 2공장 건설을 검토하고 있다. 레거시(성숙) 공정 위주였던 1공장과 달리 2공장은 6나노 수준의 첨단 반도체 공정 라인이 투입될 것이라는 분석이 나온다.

또 일본 정부는 도요타, 소니, 키옥시아 등 일본 8개 기업이 합작해 설립한 라피더스의 파일럿 라인 건설에도 5900억엔 상당의 신규 보조금을 지원할 것으로 예상된다. 일본 정부는 이미 라피더스에 3300억엔 수준의 지원을 약속했는데 지원 규모가 크게 늘어날 전망이다. 라피더스는 오는 2027년까지 2나노 첨단 반도체 양산을 목표로 하는 기업으로 사실상 일본의 국책 기업이다.

일본이 기존부터 강했던 반도체 장비 부문에서는 성과가 나타나고 있다. 캐논은 지난달 나노임프린트 기술을 활용한 리소그래피 노광장비를 개발했다고 발표했다. 노광장비는 반도체 웨이퍼에 회로 패턴을 그릴 때 사용하는 필수 장비로, 현재는 네덜란드 ASML이 시장을 장악하고 있다. 특히 5나노 이하 첨단 공장에서 사용되는 EUV(극자외선) 장비는 ASML이 독점 생산한다. 캐논은 이번에 새롭게 개발한 나노임프린트 리소그래피 장비가 5나노는 물론 향후 기술이 개발되면 최대 2나노급 반도체까지 제조 가능하며, 가격도 ASML의 EUV 장비보다 저렴하게 공급할 수 있을 것으로 자신했다.전혜인기자 hye@dt.co.kr