美, ASML 통해 中 반도체 '첨단 공정' 숨통 더 조인다

장경윤 기자 2023. 10. 23. 09:07
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강화된 미국 상무부의 대중(對中) 반도체 수출 규제가 중국의 반도체 생산능력에 큰 타격을 줄 수 있다고 홍콩 SCMP(사우스차이나모닝포스트)가 지난 20일(현지시간) 보도했다.

이에 미국은 올해 중순 네덜란드 정부와 협력해 내년부터 ASML의 이머전 DUV 장비 2종을 중국에 수출하지 못하도록 규제하기로 했다.

그러나 이번 미국의 발표로 규제 범위가 확장되면서, 중국은 첨단 공정을 양산을 지속할 핵심 수단을 잃게 됐다.

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미 상무부, ASML 첨단장비 中 수출 규제 범위 확대하기로

(지디넷코리아=장경윤 기자)강화된 미국 상무부의 대중(對中) 반도체 수출 규제가 중국의 반도체 생산능력에 큰 타격을 줄 수 있다고 홍콩 SCMP(사우스차이나모닝포스트)가 지난 20일(현지시간) 보도했다.

앞서 미 상무부는 지난 18일 중국에 대한 추가 반도체 수출 규제를 발표했다. 이로써 AI 반도체의 수출 제한 범위는 기존 고사양 제품에서 저사양 제품으로 확대됐으며, 일부 첨단 반도제 제조장비도 규제 목록에 신규 등록됐다.

ASML 트윈스캔 NXT:1980Di (사진=ASML)

특히 업계는 네덜란드 소재의 주요 노광장비 업체 ASML에 대한 변경점에 주목한다. 미국이 수출 규제를 위해 발표한 문서에 따르면 ASML의 DUV(심자외선) 장비인 'NXT:1980Di'가 이번 수출 규제 명단에 포함됐다.

지난 2015년 출시된 NXT:1980Di는 현재 반도체 업계에서 가장 활발히 쓰이고 있는 이머전 DUV 기술을 기반으로 한다. 이머전은 일반 DUV 대비 렌즈의 해상력을 높이는 기술로 40나노미터(nm) 이상의 공정을 구현할 수 있다.

나아가 노광공정을 여러 번 거치는 '멀티 패터닝' 기술을 활용하면, 해당 장비로도 7나노급의 첨단 공정을 구현하는 것이 가능해진다. 통상 7나노 이하 공정은 양산성을 이유로 DUV 보다 한 단계 진보된 EUV(극자외선) 장비를 활용해 왔다.

다만 중국은 미국의 제재로 2019년부터 EUV 장비 도입이 불가능해져, 이머전 DUV 장비를 통한 첨단 공정 개발에 매진해 왔다. 대표적으로 중국 주요 파운드리인 SMIC가 이머전 DUV 장비를 활용해 지난해부터 7나노 반도체를 잇따라 양산한 바 있다. 

이에 미국은 올해 중순 네덜란드 정부와 협력해 내년부터 ASML의 이머전 DUV 장비 2종을 중국에 수출하지 못하도록 규제하기로 했다. 당시 규제 명단에 오른 장비 2종은 NXT:1980Di의 후속 모델인 NXT:2000i 및 NXT:2050i다.

이에 업계는 중국이 NXT:1980Di를 통해 여전히 이머전 DUV 장비를 도입할 수 있다는 관측을 내놨다.

그러나 이번 미국의 발표로 규제 범위가 확장되면서, 중국은 첨단 공정을 양산을 지속할 핵심 수단을 잃게 됐다.

베를린 소재의 싱크탱크 SNV는 이와 관련해 "네덜란드 정부가 ASML의 중국향 장비 수출 규제를 확립한 지 불과 4개월 만에 미국 정부가 더 많은 노광장비를 규제하기로 했다는 점은 주목할 만하다"며 "ASML이 중국에 판매할 수 있는 장비가 잠재적으로 더 제한될 수 있다"고 밝혔다.

시장조사업체 트렌드포스 역시 "이전 회색지대에 놓여 있던 NXT:1980Di가 규제 목록에 공식적으로 포함된 것이 중요한 변화"라며 "다만 ASML이 일부 장비에 대한 출하 허가를 받은 사례가 있어 이에 따른 변화는 지켜봐야 할 것"이라고 설명했다.

장경윤 기자(jkyoon@zdnet.co.kr)

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