국가핵심기술 보호위반, 15년째 과태료 부과 없어

정부가 지난 2009년부터 최근까지 기업의 국가핵심기술 보호 관련 위법사항에 대해 과태료를 부과한 적이 없는 것으로 나타났습니다.

어제(5일) 양향자 한국의희망 의원실이 산업통상자원부로부터 제출받은 자료에 따른 내용입니다. 

국가핵심기술은 국내외 시장에서 기술적, 경제적 가치가 높거나 관련 산업의 성장 잠재력이 높아 해외로 유출될 경우에 국가의 안전 보장과 국민 경제의 발전에 중대한 악영향을 줄 우려가 있는 산업 기술을 뜻합니다.

30나노미터 이하급 반도체와 리튬이온배터리 기술 등이 대표적인 국가핵심기술입니다.

과태료는 국가핵심기술을 보유, 관리하고 있는 기업 또는 기관이 유출 방지를 위한 조치를 거부하거나 기피한 경우 부과됩니다.

산업부가 임오경 더불어민주당 의원실에 제출한 자료에 따르면 지난 2016년부터 지난해까지 반도체·전기전자·조선·디스플레이 등 산업기술의 해외유출 적발 건수는 총 142건에 달했습니다.

특히 산업기술 중 30나노 D램, 30나노 낸드, 30나노 파운드리 등 산업기술보호법 제2조에서 지정한 국가핵심기술의 해외유출은 2016년부터 올해까지 47건 적발됐습니다.

국가핵심기술은 한 번 유출되면 막대한 피해가 우려됩니다.

국가정보원이 국회 첨단전략산업특별위원회에 보고한 내용에 따르면 2018∼2022년 산업기술 해외유출에 의한 피해액은 25조원으로 추산됩니다.

하지만 기술유출 사건에 대한 법원의 양형 기준은 낮은 편이어서 '솜방망이 처벌'에 그친다는 지적이 제기되고 있습니다.

지난 2019∼2022년 산업기술보호법, 부정경쟁방지법 위반에 대한 법원 선고 445건 중 실형은 47건(10.6%)에 불과했으며, 대부분 집행유예 선고가 내려졌습니다.

국가핵심기술 해외유출에 대한 법정형은 '3년 이상 유기징역'이지만, 실제 법원의 기본 양형 기준은 '1년∼3년 6월'에 그치고 있습니다.

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